[發明專利]一種銅鋅錫硫四元靶材的制備方法在審
| 申請號: | 201410659317.6 | 申請日: | 2014-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN104404456A | 公開(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發明(設計)人: | 張寧;余新平;容構華;劉鵬 | 申請(專利權)人: | 北京四方繼保自動化股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京金闕華進專利事務所(普通合伙) 11224 | 代理人: | 吳鴻維 |
| 地址: | 100085 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 銅鋅錫硫四元靶材 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于光電材料技術領域,特別涉及一種銅鋅錫硫四元靶材的制備方法。
背景技術
銅鋅錫硫具有來源豐富,價格便宜和無毒無害等特點,其禁帶寬度為1.4~1.5eV,而且其吸收系數大于104cm-1,可作為理想的太陽能電池吸收層材料。相對CIGS太陽能薄膜電池,CZTS的優勢在于它的廉價和無毒無害,其組成元素在地殼中的含量較為豐富,因此CZTS成為最具潛力的替代CIGS的新型薄膜太陽能電池吸收層材料。
近年來,各研究機構掀起了對銅鋅錫硫系薄膜太陽能電池開發熱潮。銅鋅錫硫吸收層材料的制備方法各式各樣,其中磁控濺射法和電鍍法是兩種最具有工業化應用前景的制備方法。2012年,Chawla和Clemens用共濺射法制備Cu2ZnSnS4薄膜太陽能電池吸收層,其電池器件轉化效率達到了9.3%。
靶材是濺射鍍膜過程中的重要原材料,靶材的成分配比和物理性能直接影響薄膜的光電性能。當前,已存在相關研究單位著力發展四元化合物靶材一步濺射法,該方法具有工藝流程簡單,制備薄膜成分均勻等特點。申請號為201110432162.9的專利公開了一種銅鋅錫硫陶瓷靶材及其真空熱壓制備方法,其特征在于采用硫化銅、硫化鋅、硫化錫粉按照摩爾比2:1:1配料,真空至10-1~10-2Pa,然后升溫到800~1400℃,升溫過程中不斷軸向加壓,加壓到10~30Mpa時,開始保溫、保壓,進行燒結得到銅鋅錫硫靶材。
發明內容
本發明目的在于提供一種銅鋅錫硫靶材的制備方法,實現低溫燒制銅鋅錫硫四元靶材,為大面積生產高效率器件提供原材料支持,同時簡化濺射鍍膜工藝,特別適用于高效率、低成本的CZTS薄膜太陽能電池的工業化生產。
本發明具體采用以下技術方案。
一種銅鋅錫硫四元靶材的制備方法,其特征在于:按照化學計量比將純度≥4N的高純硫化亞銅Cu2S、硫化鋅ZnS、二硫化錫SnS2粉末混合均勻;然后將混合粉末烘干、過篩;然后將混合均勻的粉末置于模具中通過熱壓燒結制備CZTS四元靶材。
一種銅鋅錫硫(CZTS)四元靶材的制備方法,其特征在于,所述制備方法包含以下步驟:
(1)按照化學計量比Cu2xZnySnS(x+y+2)將純度≥4N的高純硫化亞銅Cu2S、硫化鋅ZnS、二硫化錫SnS2粉末經球磨充分混合均勻;
(2)將混合粉末烘干、過篩;
(3)將混合均勻的粉末置于模具中,在保護性氣氛中,通過熱壓燒結工藝制成CZTS四元靶材。
本申請還進一步優選包括以下技術方案:
步驟(1)中所述化學計量比為:0.5≤2x/(1+y)≤1.2,0.7≤y≤1.8。
在步驟(1)中,所述球磨介質為無水乙醇、去離子水或者空氣中的一種,球磨時間為1~24h。
在步驟(3)中,熱壓燒結時爐內(是否指磨具中的本底真空度)的本底真空≤3×10-2Pa,燒結溫度為300~800℃,升溫速率3-30℃/min,熱壓壓力為10~80MPa,保溫時間為0.5~12h,保溫結束后卸壓,隨爐冷卻至200℃以下取出。
在步驟(3)中,所述保護性氣氛為真空或者充入保護性氣體,當為真空時,所述真空氣壓為20Pa以下;當為保護性氣體時,所述保護性氣體為氫氣、氮氣或氬氣,保護性氣體氣壓為1atm。
本發明的功能要點有二個方面,其一是實現低溫熱壓燒制銅鋅錫硫靶材,其二是實現不同成分配比的銅鋅錫硫靶材燒制。
本發明具有以下有益技術效果:
為實現高效率、低成本和環保的薄膜太陽能電池所需靶材,為高效率器件制備所需成分的吸收層材料,本發明提出的一種銅鋅錫硫四元靶材的制備方法具有熱壓溫度低,成型性好,密度高等特點。本發明工藝簡單,制得的CZTS靶材成分均勻,相對密度達到90%以上,濺射性能良好,主要用于高效率、低成本的CZTS薄膜太陽能電池的制備與規模化生產。
具體實施方式
下面結合具體你實施例對本發明的技術方案做進一步詳細介紹。
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