[發明專利]一種超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板及其制作方法

在審

• 申請號: 201410657790.0
• 申請日: 2014-11-18
• 公開（公告）號: CN104404446A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發明（設計）人: 張霞;于治水;姚寶殿
• 申請（專利權）人: 上海工程技術大學
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 上海海頌知識產權代理事務所(普通合伙) 31258
• 代理人: 何葆芳

1.一種超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板，其特征在于：包括上、下兩磁性膜層及石墨烯和/或石墨烯衍生物中間層，所述的上、下兩磁性膜層與石墨烯和/或石墨烯衍生物中間層間依次層疊形成三明治結構；或者，上、下兩磁性膜層對石墨烯和/或石墨烯衍生物中間層形成包封結構。

2.如權利要求1所述的超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板，其特征在于：上、下兩磁性膜層為相同材質或不同材質。

3.如權利要求2所述的超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板，其特征在于：所述的上、下兩磁性膜層獨立選自因瓦合金膜或添加有軟磁金屬粉的聚酰亞胺膜。

4.如權利要求3所述的超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板，其特征在于：所述的軟磁金屬粉選自Fe、Co、Ni金屬粉中的至少一種。

5.如權利要求1至3中任意一項所述的超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板，其特征在于：上、下兩磁性膜層的厚度均為3～15μm，上、下兩磁性膜層與中間層的三層總厚度為6～30μm。

6.一種權利要求1所述的超高分辨率蒸鍍用精細金屬掩膜板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

a)制板，即：在下磁性膜的上表面涂敷石墨烯和/或石墨烯衍生物中間層，再將上磁性膜貼合在石墨烯和/或石墨烯衍生物中間層的上表面，然后將上磁性膜與下磁性膜的兩端進行粘接或焊接為一體；

b)打孔，即：采用激光打孔或激光打孔與濕法刻蝕相結合工藝制作通孔。

7.如權利要求6所述的制作方法，其特征在于：石墨烯和/或石墨烯衍生物中間層采用激光打孔。

8.如權利要求6所述的制作方法，其特征在于：所述的石墨烯和/或石墨烯衍生物采用化學氣相沉積法或層壓法涂敷在下磁性膜的上表面。