[發明專利]低功率雙頻超聲波Fenton氧化反應器裝置

有效

• 申請號: 201410655135.1
• 申請日: 2014-11-14
• 公開（公告）號: CN104326526A
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 許曉毅;程謠;張婷婷;蔡嵐;蘇攀;尤曉璐;于蘭;幸秀麗
• 申請（專利權）人: 重慶大學
• 主分類號: C02F1/36
• 分類號: C02F1/36;C02F1/72
• 代理公司: 重慶華科專利事務所 50123
• 代理人: 康海燕;吳興偉

1.低功率雙頻超聲波Fenton氧化反應器裝置，其特征在于：包括雙頻超聲波發生器、超聲波清洗槽和Fenton氧化反應器；所述的雙頻超聲波發生器可單獨或同時產生40KHz和20KHz高低兩種頻率的超聲波；超聲波清洗槽為不銹鋼制，其內設置有2個垂直方向的超聲波換能器和2個平方向的超聲波換能器，超聲波換能器由超聲波發生器連接供能并控制，將不同頻率的超聲信號各自轉換成機械能傳至清洗槽內的溶液介質，超聲波發生器與清洗槽最大功率為300W；垂直方向的超聲波換能器位于超聲波清洗槽底部，接受40KHz頻率的超聲波信號，水平方向的超聲波換能器位于超聲波清洗槽4個立壁的其中一個上，接受20KHz頻率的超聲波信號；在超聲波清洗槽的上部安裝有四組可拆卸的彈簧，其中2組與另外2組垂直，呈上下層設置，高度差1～3cm，每組2～4根彈簧，為無間隔并排安裝，四組彈簧交叉形成的口字形區域將Fenton氧化反應器彈性夾持固定住，反應器固定時彈簧可根據反應器的形狀進行相應的形變，同時由兩個垂直方向的上下層彈簧間的形變收縮確保反應器穩定。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于：在超聲波清洗槽兩側分別設置循環水進出水口，外連恒溫水箱。

3.如權利要求2所述的裝置，其特征在于：所述的超聲波清洗槽的循環水出水口高于循環水進水口，高度差為清洗槽高度的二分之一。

4.如權利要求1～3任一項所述的裝置，其特征在于：Fenton氧化反應器包括反應器主體和排氣防溢部；所述的反應器主體為球形玻璃器皿；所述的排氣防溢位于反應器主體頂部，呈向上延伸縮小的旋轉曲面體，末端有排氣防溢口；在反應器主體上水平對應設置通氣管口和加樣口，反應器主體內設置有通氣管，通氣管一段向下延伸至反應器主體底部，且末端設置有曝氣頭，另一端向上延伸至通氣管口。

5.如權利要求4所述的裝置，其特征在于：Fenton氧化反應器高度為H，反應器主體為3/4球形反應室，半徑為R，高度為h₁，即h₁＝3R/2，反應器有效容積V＝πR³；排氣防溢部為由反應室主體向上延伸縮小的旋轉曲面體，上下底面半徑分別為r₁和R₁，r₁︰R₁＝1︰5＝R/8，旋轉曲面母線滿足如下方程：(x-R8)23+y23=(5R8)23]]>(即x=5R8sinθ+R8x=5R8cosθ(θ∈[0,90])]]>)；旋轉曲面旋轉軸為過上下底面中心的垂直線；排氣防溢部高h₂＝4H/9＝4R/3；通氣管口半徑r₂＝2r₁/3；加樣管口半徑r₃＝2r₁；反應器底部曝氣頭半徑r₄＝2r₂；曝氣孔r₅＝1.5mm。