[發(fā)明專利]翻轉(zhuǎn)裝置、基板對盒系統(tǒng)及基板對盒方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410654593.3
• 申請日: 2014-11-17
• 公開（公告）號: CN104360507B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 井楊坤;桑勝光;孫國防;劉志強;張周生;車曉盼;鄭潭冬
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11112
• 代理人: 柴亮,張?zhí)焓?/td>

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于對盒工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種翻轉(zhuǎn)裝置、基板對盒系統(tǒng)及基板對盒方法。

背景技術(shù)

隨著液晶顯示技術(shù)的進步，以及液晶顯示裝置具有重量輕且體積小等優(yōu)點，液晶顯示裝置已廣泛地應(yīng)用于多種電子產(chǎn)品中。液晶顯示裝置包括液晶顯示面板與背光模組，其中液晶顯示面板是由兩個基板以及位于兩個基板之間的液晶層所構(gòu)成。此時需要將兩個基板相互對盒，形成液晶盒以容納液晶分子。在對盒過程中需要通過翻轉(zhuǎn)裝置將其中一個基板翻面，之后與另一基板相對盒。

如圖1所示，現(xiàn)有的翻轉(zhuǎn)裝置包括固定支架10和翻轉(zhuǎn)平臺20，其中翻轉(zhuǎn)平臺20通過旋轉(zhuǎn)軸30與固定支架10連接。翻轉(zhuǎn)平臺20的一面為具有多個吸附單元的吸附面21，用于吸附基板。當(dāng)翻轉(zhuǎn)平臺20的吸附面21吸附基板且翻轉(zhuǎn)平臺20沿預(yù)定方向翻轉(zhuǎn)180度時，被翻轉(zhuǎn)平臺20所吸附的基板會隨之翻轉(zhuǎn)180度，然后可以通過機械手臂將該基板取下與另一半對盒，從而形成液晶顯示面板。

發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題：由于現(xiàn)有的翻轉(zhuǎn)裝置的翻轉(zhuǎn)平臺20只具有一個吸附面21，故在基板被機械手臂取走后，需要將翻轉(zhuǎn)平臺沿著上述預(yù)定方向的反方向翻轉(zhuǎn)180度，以將翻轉(zhuǎn)平臺20的吸附面21歸位，來繼續(xù)吸附并翻轉(zhuǎn)其它基板。如此，降低了生產(chǎn)效率，以及該翻轉(zhuǎn)裝置的工作效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題包括，針對現(xiàn)有的翻轉(zhuǎn)裝置的工作效率較低的問題，提供一種工作效率較高同時具有基板預(yù)對位功能的翻轉(zhuǎn)裝置、基板對盒系統(tǒng)及基板對盒方法。

解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種翻轉(zhuǎn)裝置，其包括：固定支架，以及與固定支架通過豎直旋轉(zhuǎn)軸連接的翻轉(zhuǎn)平臺，所述翻轉(zhuǎn)平臺具有相對設(shè)置用于吸附基板的第一吸附面和第二吸附面；

所述翻轉(zhuǎn)裝置還包括分別用于驅(qū)動第一吸附面和第二吸附面在水平方向上發(fā)生旋轉(zhuǎn)的第一水平旋轉(zhuǎn)軸和第二水平旋轉(zhuǎn)軸，真空吸附單元以及控制單元，所述控制單元用于控制真空吸附單元通過所述第一吸附面或所述第二吸附面吸附基板，所述翻轉(zhuǎn)平臺通過豎直旋轉(zhuǎn)軸翻轉(zhuǎn)被吸附的基板。

在發(fā)明的翻轉(zhuǎn)裝置中，當(dāng)?shù)谝晃矫娉虼D(zhuǎn)的基板一側(cè)時，第二吸附面朝向基板卸載側(cè)；而當(dāng)?shù)诙矫娉虼D(zhuǎn)的基板一側(cè)時，第一吸附面朝向基板卸載側(cè)。故當(dāng)吸附于其中一個吸附面的基板被翻轉(zhuǎn)后，可直接利用另一面吸附面吸附另一基板，從能可以節(jié)省電能的消耗，以及提高多個基板的翻轉(zhuǎn)效率。

同時在本發(fā)明中還包括分別用于使得第一吸附面和第二吸附面在水平方向發(fā)生旋轉(zhuǎn)的第一水平旋轉(zhuǎn)軸和第二水平旋轉(zhuǎn)軸，如此設(shè)置可以使得當(dāng)吸附于其中一個吸附面的基板被翻轉(zhuǎn)后與其將要對盒的對盒基板預(yù)對位，由于基板位置與對盒基板的位置均是相同，故該吸附面翻轉(zhuǎn)回待翻轉(zhuǎn)的基板的一側(cè)，對之后的基板進行翻轉(zhuǎn)時，無需在對之后所反轉(zhuǎn)的基板與其對盒基板進行預(yù)對位，從而大大節(jié)省了基板的對位效率，進而提高產(chǎn)能。

優(yōu)選的是，所述第一吸附面和所述第二吸附面上均設(shè)置有多個成矩陣排列的吸附柱，所述吸附柱內(nèi)部為中空。

進一步優(yōu)選的是，在所述吸附柱的開口端上連接有阻尼彈簧，在所述阻尼彈簧上連接有真空吸盤。

進一步優(yōu)選的是，所述真空吸附單元包括：第一氣管、第二氣管、氣體控制閥，氣體壓縮單元；

所述第一氣管和第二氣管均包括多個連通并延伸至吸附柱中的分支，且所述第一氣管和第二氣管在進氣口端連通；

所述氣體控制閥一端與所述第一氣管和第二氣管的進氣口連接，另一端與氣體壓縮單元，用于在所述控制單元的控制下，控制所述第一氣管和第二氣管的開啟與關(guān)斷；

所述空氣壓縮單元用于在控制單元的控制下控制氣體的通入與排出。

更進一步優(yōu)選的是，所述真空孔吸附單元還包括：壓力計，所述壓力計設(shè)于氣體控制閥與所述進氣口端之間。

優(yōu)選的是，在所述第一吸附面和第二吸附面上均設(shè)置有對位攝像頭。

優(yōu)選的是，在所述第一吸附面在所述第二吸附面的邊緣區(qū)域上均設(shè)置有用于夾持基板的對位夾。

優(yōu)選的是，在所述第一吸附面和第二吸附面上均設(shè)置有基板感應(yīng)傳感器。

解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種基板對盒系統(tǒng)，其包括上述翻轉(zhuǎn)裝置。

優(yōu)選的是，所述基板對盒系統(tǒng)還包括：承載有對盒基板的對位裝置。

解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種基板對盒方法，包括如下步驟：

通過翻轉(zhuǎn)裝置的第一吸附面或第二吸附面吸附一基板，并將該基板翻轉(zhuǎn)至朝向?qū)ξ谎b置的承載對盒基板的對位平臺上方；