[發明專利]一種高溫合金復合納米晶涂層及其制備方法有效
| 申請號： | 201410653246.9 | 申請日： | 2014-11-17 |
| 公開（公告）號： | CN104441821A | 公開（公告）日： | 2015-03-25 |
| 發明（設計）人： | 朱圣龍;陳明輝;楊蘭蘭;王福會 | 申請（專利權）人： | 中國科學院金屬研究所 |
| 主分類號： | B32B15/01 | 分類號： | B32B15/01;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/32 |
| 代理公司： | 沈陽晨創科技專利代理有限責任公司 21001 | 代理人： | 張晨 |
| 地址： | 110015 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高溫 合金 復合 納米 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種高溫合金復合納米晶涂層，其特征在于：該復合納米晶涂層由底層與面層組成；底層為濺射納米晶涂層，面層為NiCrAlY涂層。
2.按照權利要求1所述高溫合金復合納米晶涂層，其特征在于：復合納米晶涂層的底層為柱狀納米晶涂層，柱狀晶尺寸小于100nm，厚度為18～40um，其成分與高溫合金基體一致。
3.根據權利要求1所述高溫合金復合納米晶涂層，其特征在于：所述NiCrAlY面層成分為Cr：24～29wt％，Al：9～13wt％，Al+Cr：33～40wt％，Y：0～1wt％，余量為Ni；納米晶底層涂層的厚度為NiCrAlY面層厚度的1.5～3倍。
4.按照權利要求1所述高溫合金復合納米晶涂層，其特征在于：涂層的總體厚度為30～60um。
5.一種按照權利要求1所述高溫合金復合納米晶涂層的制備方法，其特征在于：采用磁控濺射方法制備納米晶底層，采用多弧離子鍍方法制備NiCrAlY面層。
6.按照權利要求5所述高溫合金復合納米晶涂層的制備方法，其特征在于，所述磁控濺射方法的具體步驟為：(1)真空熔煉與高溫合金基體成分一致的合金靶材；(2)將所鍍零件打磨處理后清洗；(3)采用磁控濺射制備納米晶底層，工藝參數為：
真空度：P﹤6×10-3Pa
功率：2000W
氬氣：0.10Pa
基片溫度：200～250℃
沉積時間：6～14小時。
7.按照權利要求5所述高溫合金復合納米晶涂層的制備方法，其特征在于，所述多弧離子鍍方法的具體步驟為：
(1)真空熔煉NiCrAlY面層合金靶材；
(2)取已磁控濺射納米晶底層涂層的零件在多弧離子鍍真空室內離子清洗，具體參數為：
真空度：P﹤6×10-3Pa
電弧電流：65-75A
基片負偏壓：900V
氬氣：0.1Pa
清洗時間：3～10min；
(3)采用多弧離子鍍制備NiCrAlY面層，具體參數為：
真空度：P﹤6×10-3Pa
電弧電流：65-75A
基片負偏壓：50V
基片溫度：200～250℃
氬氣：0.1Pa
沉積時間：1-3h。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院金屬研究所，未經中國科學院金屬研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410653246.9/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：耐高溫的電子插件
- 下一篇：新型實用平壓平壓切紙盒自動撇耳朵方法
