[發明專利]一種液晶顯示器及其陣列基板在審
| 申請號: | 201410650057.6 | 申請日: | 2014-11-14 |
| 公開(公告)號: | CN104393004A | 公開(公告)日: | 2015-03-04 |
| 發明(設計)人: | 呂啟標 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L29/786;G02F1/1362;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產權代理有限公司 11372 | 代理人: | 朱繪;張文娟 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 液晶顯示器 及其 陣列 | ||
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,具體地說,涉及一種液晶顯示器及其陣列基板。
背景技術
薄膜晶體管液晶顯示器(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display,簡稱TFT-LCD)是目前的主流顯示裝置,其顯示區一般由上百萬個重復的像素單元組成,而一個像素單元一般由紅、綠、藍三個子像素單元組成。子像素單元的結構如圖1所示,主要由柵線1、數據線2、TFT、像素電極3、公共電極線4等組成,其中,TFT由下至上依次包括柵極5(與柵線1連接)、有源層6、源極7(與數據線2連接)和漏極8(通過導電孔9與像素電極3連接)。
具體的,該子像素單元可等效為圖2所示的等效電路圖。如圖2所示,該子像素單元的結構的主要組成電容包括存儲電容Cst、液晶電容Clc和寄生電容Cgs等。其中,存儲電容Cst由像素電極3和位于陣列基板上的公共電極線4組成,液晶電容Clc則由像素電極3和彩膜基板上的公共電極組成。
TFT-LCD工作的時候,柵線1為柵極5供電,柵極5施加電壓使得TFT導通,數據線2承載的數據信號經由源極7、有源層6和漏極8傳輸到像素電極3。通過往數據線2輸入不同的數據信號,從而控制液晶電容Clc兩端的電壓。液晶電容Clc兩端的電壓不同,陣列基板和彩膜基板之間的液晶的偏轉方向會不一樣,子像素的光導通率也會隨之而改變,最終實現控制每個子像素的顯示亮度。
另外,在像素設計中不可避免地引入一些寄生電容。其中,如圖2所示,TFT的漏極8和柵極5交疊導致形成寄生電容Cgs,該寄生電容Cgs對TFT-LCD的顯示質量影響較大。進一步的,圖3是圖2所示的等效電路中、柵線1電壓和像素電極3電壓等信號的輸出波形圖。由圖3中可以看出:在柵線1信號的下降沿,由于寄生電容Cgs的存在,像素電極3電壓會與輸入的數據信號之間電壓差ΔV,其大小可以由下式計算得到:
其中,上式中的ΔVg為柵線1信號的高電壓和低電壓之差。上述現象叫做Feed-through效應。
由于Feed-through效應的存在,在子像素設計的過程中,技術人員會借助一些先進的電子設計自動化(Electronic?Design?Automation,簡稱EDA)工具對子像素進行模擬設計,例如如圖3所示,設定子像素最佳公共電極電壓(Best?Vcom)。但在陣列基板的制造過程中,通常需要幾道成膜工序,每道工序中都涉及到對位的問題。因此如果在制造過程中,位于上層的數據線2、源極7和漏極8等結構與位于下層的柵極5和柵線1等結構發生圖1中正負x方向的對位誤差,導致各層結構對位不精準,將使得該子像素原先設定好的各電容發生改變,子像素的性能也會發生改變。若是寄生電容Cgs發生了變化,原先設定的子像素最佳公共電壓將不再適用,將導致制成的TFT-LCD顯示畫面異常,加重殘影(Image?Stacking,簡稱IS)等不良現象。
發明內容
本發明提出一種液晶顯示器及其陣列基板,有效地解決了在制造陣列基板的過程中,由于漏極和柵極對位不準,使得子像素的寄生電容Cgs發生變化的問題。
本發明第一方面提供了一種陣列基板,包括多個陣列排布的子像素單元,每一子像素單元包括薄膜晶體管和像素電極,所述薄膜晶體管包括柵極和連接像素電極的漏極;
其中,所述柵極形成有鏤空區域,所述鏤空區域對應漏極遠離所述像素電極的一端設置,且所述漏極的端部位于所述鏤空區域中。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市華星光電技術有限公司,未經深圳市華星光電技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410650057.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





