[發(fā)明專利]一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410649843.4
• 申請(qǐng)日: 2014-11-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104368815A
• 公開(kāi)（公告）日: 2015-02-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王小軍;王修春;張晶;伊希斌;魏軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東省科學(xué)院新材料研究所
• 主分類號(hào): B22F3/105
• 分類號(hào): B22F3/105
• 代理公司: 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37221
• 代理人: 崔苗苗

1.一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，包括步驟如下：

(1)利用計(jì)算機(jī)設(shè)計(jì)所需成型零部件的CAD三維模型，并將其轉(zhuǎn)換成可分切的數(shù)據(jù)格式STL文件，在三維模型的底部建立具有一定高度的支撐體，將三維模型連同支撐體分切成具有一定厚度的若干層，并對(duì)其進(jìn)行工藝參數(shù)設(shè)定，將數(shù)據(jù)及參數(shù)導(dǎo)入SLM設(shè)備；

(2)在SLM設(shè)備中，將密封裝置抽真空后充入惰性氣體進(jìn)行氣氛保護(hù)，將基板固定在可升降的工作臺(tái)上，送粉系統(tǒng)在基板上均勻鋪一層Al-Si合金粉末；

(3)根據(jù)導(dǎo)入?yún)?shù)激光選擇性地掃描相應(yīng)切層，工藝參數(shù)為：激光器功率80～200W，激光停留時(shí)間20～120μs，激光掃描速度200～2000mm/s，激光掃描間距0.05～0.2mm；

(4)將基板下降一個(gè)層的厚度，在基板上鋪一層新的Al-Si合金粉末；

(5)重復(fù)步驟(3)和(4)直至各層完成；

(6)收集成型零部件以外的松散金屬粉末，處理后備用，將成型好的零部件從基板上取下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，步驟(1)所述的每個(gè)分切層的厚度選20～100μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，步驟(1)所述的支撐體高度2～5mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，步驟(2)所述的Al-Si合金粉末呈球形或近球形，直徑在20～60μm之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，步驟(2)所述的Al-Si合金粉末采用惰性氣體霧化法制備。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，步驟(2)鋪粉厚度20～100μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種選擇性激光熔化制備納米級(jí)球狀Si相Al-Si合金的方法，其特征是，鋪粉厚度與切層厚度一致。