[發明專利]一種干涉光譜成像儀相位誤差修正方法及裝置

有效

• 申請號: 201410648156.0
• 申請日: 2014-11-15
• 公開（公告）號: CN104316188B
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 景娟娟;呂群波;相里斌;周錦松
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電研究院
• 主分類號: G01J3/45
• 分類號: G01J3/45
• 代理公司: 北京凱特來知識產權代理有限公司11260
• 代理人: 鄭立明,鄭哲

1.一種干涉光譜成像儀相位誤差修正方法，其特征在于，包括：

對干涉光譜成像儀獲取的干涉圖的小雙邊部分進行IFFT快速傅立葉逆變換得到相位因子，以及對所述相位因子進行FFT快速傅立葉變換得到對稱化函數；

將所述干涉圖與所述對稱化函數進行卷積處理得到卷積干涉圖；

對所述卷積干涉圖進行IFFT得到復原光譜函數，以及對所述卷積干涉圖的小雙邊部分進行IFFT得到相位誤差因子；

根據所述相位誤差因子對所述復原光譜函數進行修正，得到目標光譜函數。

2.根據權利要求1所述的干涉光譜成像儀相位誤差修正方法，其特征在于，所述干涉圖與所述對稱化函數卷積處理的次數小于等于2次；

當所述卷積處理的次數為2次時，將所述干涉圖與所述對稱化函數進行卷積處理得到卷積干涉圖，包括：

將所述干涉圖與所述對稱化函數進行第一次卷積處理，得到中間卷積干涉圖；

將所述中間卷積干涉圖與所述對稱化函數進行第二次卷積處理，得到卷積干涉圖。

3.根據權利要求1或2所述的干涉光譜成像儀相位誤差修正方法，其特征在于，所述干涉光譜成像儀相位誤差修正方法，對干涉光譜成像儀獲取的干涉圖的小雙邊部分進行IFFT得到相位因子之前，還包括：

對所述干涉光譜成像儀獲取的干涉圖進行預處理，得到預處理干涉圖，所述預處理包括濾波以及切趾；

此時，對所述預處理干涉圖小雙邊部分進行IFFT得到相位因子。

4.根據權利要求3所述的干涉光譜成像儀相位誤差修正方法，其特征在于，所述相位因子與所述對稱化函數F(x)滿足：

其中，I′(x)為預處理干涉圖，ν為波數，x為光程差。

5.根據權利要求4所述的干涉光譜成像儀相位誤差修正方法，其特征在于，將所述干涉圖與所述對稱化函數進行1次卷積處理得到卷積干涉圖I₁(x)時：

I₁(x)進行IFFT得到的復原光譜函數為B₁(ν)，B₁(ν)＝IFFT[I₁(x)]；

對I₁(x)的小雙邊部分進行IFFT得到相位誤差因子為

相位誤差因子與目標光譜函數B(v)滿足：

其中，real表示取傅立葉變換譜的實數部分；

或者，將所述干涉圖與所述對稱化函數進行2次卷積處理得到卷積干涉圖I₂(x)時：

I₂(x)進行IFFT得到的復原光譜函數為B₂(ν)，B₂(ν)＝IFFT[I₂(x)]；

對I₂(x)的小雙邊部分進行IFFT得到相位誤差因子為

相位誤差因子與目標光譜函數B(v)滿足：

其中，real表示取傅立葉變換譜的實數部分。

6.一種干涉光譜成像儀相位誤差修正裝置，其特征在于，包括：

干涉圖修正單元，用于對干涉光譜成像儀獲取的干涉圖的小雙邊部分進行IFFT快速傅立葉逆變換得到相位因子，以及對所述相位因子進行FFT快速傅立葉變換得到對稱化函數；用于將所述干涉圖與所述對稱化函數進行卷積處理得到卷積干涉圖；

光譜修正單元，用于對所述卷積干涉圖進行IFFT得到復原光譜函數，以及對所述卷積干涉圖的小雙邊部分進行IFFT得到相位誤差因子；用于根據所述相位誤差因子對所述復原光譜函數進行修正，得到目標光譜函數。

7.根據權利要求6所述的干涉光譜成像儀相位誤差修正裝置，其特征在于，所述干涉圖與所述對稱化函數卷積處理的次數小于等于2次；

當所述卷積處理的次數為2次時，所述干涉圖修正單元，具體用于：

將所述干涉圖與所述對稱化函數進行第一次卷積處理，得到中間卷積干涉圖；

將所述中間卷積干涉圖與所述對稱化函數進行第二次卷積處理，得到卷積干涉圖。