[發明專利]上法蘭排氣孔檢漏機

在審

• 申請號: 201410647746.1
• 申請日: 2014-11-14
• 公開（公告）號: CN104316279A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 占煥軍;李輝;董喜峰
• 申請（專利權）人: 湖北永金精密機械設備股份有限公司
• 主分類號: G01M3/28
• 分類號: G01M3/28
• 代理公司: 廣州市越秀區海心聯合專利代理事務所(普通合伙) 44295
• 代理人: 蔡國

1.一種上法蘭排氣孔檢漏機，包括機架本體和控制器，其特征在于，所述的機架本體上設有上法蘭輸送機構、定位機構和充氣檢漏機構，所述的控制器分別與上法蘭輸送機構、定位機構、充氣檢漏機構相連，所述的充氣檢漏機構包括主氣缸、主氣缸支架、與上法蘭的密封橡膠圈配合的充氣罩，所述的主氣缸設置在所述的主氣缸支架上，所述的主氣缸與充氣罩連接，所述的充氣罩內設有氣壓檢測單元，所述的充氣罩與外設的氣源相連。

2.根據權利要求1所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的主氣缸支架包括由上而下依次連接的氣缸連接板、上蓋板、支撐板和第一連接板，所述的第一連接板與機架本體相連，所述的主氣缸設置在所述的氣缸連接板上。

3.根據權利要求1所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的上法蘭輸送機構包括滑軌、以可滑動方式連接在滑軌上的第二連接板、測量平臺和輔助氣缸，所述的測量平臺設置在第二連接板上方，所述的輔助氣缸與第二連接板相連，所述的輔助氣缸用于驅動所述的連接板在滑軌上滑動。

4.根據權利要求3所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的測量平臺上設有與上法蘭的定位孔配合的定位銷。

5.根據權利要求3所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的上法蘭輸送機構還包括輔助氣缸支架和墊塊，所述的輔助氣缸支架設置在輔助氣缸的底部，所述的墊塊設置在輔助氣缸支架的底部，所述的墊塊與機架本體相連。

6.根據權利要求1所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的定位機構包括定位支架，所述的定位支架與主氣缸支架相連，所述的定位支架上設有用于檢測充氣罩位置的第一PNP接近開關。

7.根據權利要求5所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的定位支架上還設有第二PNP接近開關，所述的第二PNP接近開關用于檢測測量平臺的位置。

8.根據權利要求1所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的機架本體上還設有緊急停止開關，所述的緊急停止開關與控制器相連。

9.根據權利要求1所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的機架本體上還設有顯示器，所述的顯示器與控制器相連。

10.根據權利要求1所述的上法蘭排氣孔檢漏機，其特征在于，所述的機架本體上還設有運行開關，所述的運行開關與控制器相連。