[發明專利]硬質涂膜、透明導電性膜以及電容觸控面板

有效

• 申請號: 201410643417.X
• 申請日: 2014-11-14
• 公開（公告）號: CN104650635B
• 公開（公告）日: 2018-09-28
• 發明（設計）人: 佐藤慶一;渡邊卓三
• 申請（專利權）人: 琳得科株式會社
• 主分類號: C09D4/02
• 分類號: C09D4/02;C09D7/61;G06F3/044
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 龐立志;李炳愛

1.硬質涂膜，其在基材膜的至少單面具備硬質涂層，該硬質涂膜的特征在于，

該硬質涂膜的根據JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質涂層由至少包含（A）能量射線固化性樹脂和（B）疏水化硅溶膠的硬質涂層形成材料的固化物構成，

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~25重量份的范圍內的值，

使水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

且，

所述（B）疏水化硅溶膠偏析于將所述硬質涂層形成材料固化后的所述硬質涂層的與所述基材膜相反一側的表面，

所述硬質涂層的表面的根據JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為1.5~5nm的范圍內的值。

2.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，所述（B）疏水化硅溶膠的平均粒徑為10~100nm的范圍內的值。

3.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，使水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100~130°的范圍內的值。

4.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，所述（A）能量射線固化性樹脂含有（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物以及（a2）環氧乙烷或環氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，所述（a1）多官能（甲基）丙烯酸酯化合物與所述（a2）環氧乙烷或環氧丙烷加成型的多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的含有重量比為100:0~20:80的范圍內的值。

5.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，所述硬質涂層形成材料進一步包含（C）流平劑。

6.權利要求1所述的硬質涂膜，其特征在于，所述硬質涂層的厚度為1~10μm的范圍內的值。

7.透明導電性膜，其特征在于，其在權利要求1所述的硬質涂膜的至少單面具備透明導電層。

8.電容觸控面板，其包含：具備防玻璃飛散膜的蓋板玻璃、第一透明導電性膜、第二透明導電性膜、以及液晶顯示體，該電容觸控面板的特征在于，

所述第一透明導電性膜在第一硬質涂膜的至少單面具備第一透明導電層，

所述第二透明導電性膜在第二硬質涂膜的至少單面具備第二透明導電層，

所述第一硬質涂膜和所述第二硬質涂膜是在基材膜的至少單面具備硬質涂層的硬質涂膜，

該硬質涂膜的根據JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質涂層由至少包含（A）能量射線固化性樹脂和（B）疏水化硅溶膠的硬質涂層形成材料的固化物構成，

所述（B）疏水化硅溶膠的配合量相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~25重量份的范圍內的值，

使水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值，

且，

所述（B）疏水化硅溶膠偏析于將所述硬質涂層形成材料固化后的所述硬質涂層的與所述基材膜相反一側的表面，

所述硬質涂層的表面的根據JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為1.5~5nm的范圍內的值。

9.硬質涂膜的制造方法，所述硬質涂膜在基材膜的至少單面具備硬質涂層，該制造方法的特征在于，

所述硬質涂膜的根據JIS K 7105測定的霧度值為1.0%以下，

所述硬質涂層的表面的根據JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為1.5~5nm的范圍內的值

該制造方法包括下述工序（1）~（3）：

（1）準備硬質涂層形成材料的工序，所述硬質涂層形成材料至少包含（A）能量射線固化性樹脂、以及相對于所述（A）能量射線固化性樹脂100重量份以固體成分換算計為0.3~25重量份的范圍內的值的（B）疏水化硅溶膠，使水與將所述（B）疏水化硅溶膠制成涂膜時的涂膜的接觸角為100°以上的值；

（2）將所述硬質涂層形成材料涂布于所述基材膜的至少單面的工序；

（3）將所述硬質涂層形成材料固化，從而形成具備所述（B）疏水化硅溶膠偏析于所述硬質涂層的與所述基材膜相反一側的表面的硬質涂層的硬質涂膜的工序。