[發明專利]用于污水深度處理的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法有效
| 申請號: | 201410643042.7 | 申請日: | 2014-11-10 |
| 公開(公告)號: | CN104591342A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發明(設計)人: | 牛軍峰;林輝 | 申請(專利權)人: | 牛軍峰;林輝 |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461 |
| 代理公司: | 北京紐盟知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11456 | 代理人: | 許玉順 |
| 地址: | 100102 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 污水 深度 處理 ti ebonex pbo sub 電極 制備 方法 | ||
1.一種Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,該方法包括以下步驟:Ti基體預處理步驟、Ebonex中間層制備步驟及Ti/Ebonex/PbO2電極制備步驟,其中,所述Ti基體預處理步驟,采用300~500目的金剛砂進行噴砂處理;所述Ebonex中間層制備步驟,在保護氣氛下,將亞氧化鈦粉末以等離子噴涂的方式制備;所述Ti/Ebonex/PbO2電極制備步驟,在所述制備的Ti/Ebonex電極為基體電極,通過電沉積得到。
2.根據權利要求1所述的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,其特征在于,所述Ebonex中間層制備步驟中,所述的保護氣氛為還原性或惰性保護氣氛。
3.根據權利要求2所述的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,其特征在于,所述Ebonex中間層制備步驟中,所述還原性或惰性保護氣氛選自氦氣、氮氣、氬氣或氫氣。
4.根據權利要求1所述的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,其特征在于,所述Ebonex中間層制備步驟中,所述亞氧化鈦粉末為化學式TinO2n-1所示出的化合物或者以化學式TinO2n-1所示出的化合物為主要成份的混合物,其中,n選自3<n<10范圍的整數。
5.根據權利要4所述的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,其特征在于,所述Ebonex中間層制備步驟中,所述亞氧化鈦粉末為Ti4O7或Ti5O9,或者,以Ti4O7或Ti5O9為主要成分的混合物。
6.根據權利要求1所述的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,其特征在于,在所述電沉積步驟中,電沉積液配方為:200mg?L-1Pb(NO3)2;0.5mg?L-1NaF;0.1mmol?L-1HNO3。
7.根據權利要求1所述的Ti/Ebonex/PbO2電極的制備方法,其特征在于,在所述電沉積步驟中,電沉積參數為:沉積電流為200Am-2,電極間距為1~3cm。
8.一種Ti/Ebonex/PbO2電極,其特征在于,按照權利要求1~7中任一項所述的制備方法制備得到。
9.根據權利要求8所述的Ti/Ebonex/PbO2電極,其特征在于,所述亞氧化鈦層厚度為200μm。
10.一種污水深度處理方法,其特征在于,采用權利要求8或9所述的Ti/Ebonex/PbO2電極為陽極進行電解。
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