[發明專利]一種激光跟蹤儀測量大型模具型面的方法在審
| 申請號: | 201410642113.1 | 申請日: | 2014-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN104374333A | 公開(公告)日: | 2015-02-25 |
| 發明(設計)人: | 趙文杰;常青;文海韋 | 申請(專利權)人: | 天津天汽模飛悅航空裝備技術有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 天津濱海科緯知識產權代理有限公司 12211 | 代理人: | 李震勇 |
| 地址: | 300308 天津市濱海*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 跟蹤 測量 大型 模具 方法 | ||
技術領域
本發明創造涉及模具測量技術領域,尤其涉及一種激光跟蹤儀測量大型模具型面的方法。
背景技術
眾多大型模具由于形狀復雜,成形困難,一般需要多道工序調試才能生產出合格零件,生產周期較長,而控制最終零件幾何尺寸公差是否合格的方法之一就是有效控制模具型面尺寸及加工精度。故對模具型面的測量是零件加工工序中首要的工作。
目前,激光跟蹤儀以其測量速度快,測量精度高,測量范圍大的優點得到了廣泛的應用,由于激光跟蹤儀自身結構的復雜性,操作人員的技能、測量方法會對測量精度產生很大的影響。將激光跟蹤儀應用于大型模具測量領域,為保證測量精度和效率,仍沒有一種易實現的、具有通用性的測量方法。
發明內容
本發明的目的是要解決使用激光跟蹤儀測量大型模具型面時,測量精度和效率不能滿足工程需要的問題。
為解決上述問題,提出了一種激光跟蹤儀測量大型模具型面的方法,包括以下步驟:
S1.將待測模具3置于測量用基板5上,保證模具處于水平;
S2.將三個靶球7分別置于待測模具3上的三個基準孔1、4、6上,確保靶球的球心在基準孔軸心線上;
S3.使用激光跟蹤儀軟件,分別以三個靶球7的球心坐標為依據,換算出三個基準孔1、4、6的中心空間坐標;
S4.以上述三個基準孔1、4、6的中心空間坐標為基準,擬合絕對坐標系,使該坐標系與待測模具)設計時的理論坐標系所處位置相同;
S5.以上述絕對坐標系為參考坐標系,通過逐一對待測模具型面2上的位置目標點進行坐標采集,完成整個待測模具型面2的測量,同時得到實測數值與理論數值的偏差。
步驟S1中所述測量用基板5提供水平基準面,作為待測模具3水平找正的參考。
所述靶球7底部設有圓柱銷,該圓柱銷軸心線與靶球球心共線,且與待測模具3上的基準孔的孔徑相匹配,將圓柱銷插入基準孔內,用于靶球7的定位。
所述的圓柱銷直徑為10mm。
本發明具有的優點和有益效果在于:
本發明所述的激光跟蹤儀測量大型模具型面的方法,可以實現對整個大型模具型面進行測量,并得到實測數值與理論數值的偏差,測量精度高、操作簡單、通用性強、測量效率高;得到實測數值與理論數值的偏差,即整個模具型面的加工誤差,以此反應出模具型面的加工精度,為調整生產工藝以保障產品合格率提供依據,避免了因不掌握模具型面加工精度數據而反復調試以尋求最佳工藝的工時消耗,提高了生產效率。
附圖說明
圖1是本發明具體實施例所述的待測模具示意圖;
圖2是本發明具體實施例所述靶球的局部放大圖;
圖3是本發明具體實施例所述激光跟蹤儀軟件界面顯示的測量結果示意圖。
附圖標示說明:
1-基準孔a;2-待測模具型面;3-待測模具;4-基準孔c;5-測量用基板;6-基準孔b;7-靶球;8-基準孔所在平面。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明做進一步說明。
本實施例提供一種激光追蹤儀測量大型模具型面的方法,具體實施步驟如下:
S1:將待測AJ336模具3置于測量用基板5上,進行水平找正;
S2:將三個靶球7底部的圓柱銷分別插入待測模具3上的基準孔1、4、6內,使靶球的球心在基準孔的軸心線上,待測模具上的基準孔位置如圖1所示;
S3:使用激光跟蹤儀軟件,以三個靶球7球心坐標為依據,換算出基準孔1、4、6的中心空間坐標,即:(386.96,317.29,488.27),(544.74,-176.32,-160.66),(-177.58,-547.89,-333.42);
S4:以基準孔1、4、6的中心空間坐標為基準,擬合絕對坐標系,使該坐標系與待測模具3設計理論坐標系所處位置相同,在絕對坐標系中,基準孔1、4、6的坐標分別為(0.00,-660.00,-218.00),(495.00,0.00,-115.00),(0.00,660.00,-210.00);
S5:以上述絕對坐標系為參考坐標系,通過逐一對待測型面2上位置目標點進行坐標采集,完成整個待測模具型面2的測量,同時得到實測數值與理論數值的偏差,測量結果顯示在激光跟蹤儀軟件界面上,如圖3所示。
以上對本發明的實施例進行了詳細說明,但所述內容僅為本發明創造的較佳實施例,不能被認為用于限定本發明的實施范圍。凡依本發明創造范圍所作的均等變化與改進等,均應仍歸屬于本專利涵蓋范圍之內。
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