[發明專利]兩親性釕配合物單分子膜定向修飾的石墨烯基片及其制備方法

有效

• 申請號: 201410636070.6
• 申請日: 2014-11-13
• 公開（公告）號: CN104446644A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 王華;楊麗;李孔齋;魏永剛;祝星
• 申請（專利權）人: 昆明理工大學
• 主分類號: C04B41/46
• 分類號: C04B41/46
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種兩親性釕配合物單分子膜定向修飾的石墨烯基片，其特征在于：將兩親性釕配合物分子中的芘基通過非共價鍵的作用固定在石墨烯導電基底上，形成兩親性釕配合物單分子膜定向修飾的石墨烯基片，其中兩親性釕配合物的化學結構式如下：

。

2.權利要求1所述的兩親性釕配合物單分子膜定向修飾的石墨烯基片的制備方法，其特征在于具體步驟如下：

（1）兩親性釕配合物溶液的配制：在干凈的燒杯中加入超純水，用氨水調制pH至10~12，稱取兩親性釕配合物溶解于上述溶液中，用HCl調節pH至5~7后，制得濃度為49~51μM兩親性釕配合物溶液；

（2）石墨烯分散液的配制：按石墨烯與十二烷基硫酸鈉水溶液的質量體積比為2:10~4:10的比例，將石墨烯分散在質量體積百分比濃度為2%的十二烷基硫酸鈉水溶液中，超聲波分散處理0.5h~1.5h后在15krpm轉速下離心分離1~3h除去底部殘渣，得到石墨烯分散液；

（3）ITO導電玻璃表面的親水處理：將ITO導電玻璃浸沒于RCA溶液中，輕微震蕩除去氣泡后移至盛有熱水的水浴鍋內，加熱至90~120℃處理0.5~2h后取出ITO導電玻璃用超純水洗凈，惰性氣體吹干；

（4）石墨烯基底的制備：將經親水處理的ITO基片固定在旋凃儀上，滴加步驟（2）中的石墨烯分散液，啟動旋涂儀使石墨烯分散液在ITO基片上均勻鋪展成膜，室溫放置使其自然干燥，用甲醇清洗基片除去SDS表面活性劑后用惰性氣體吹干得到石墨烯基底，其中旋凃儀首先開啟低速，低速啟動階段旋轉速率為150~200rpm，時間為1~3s，然后開啟高速，高速旋轉速率為700~1000rpm，時間為70~120s；

（5）石墨烯基底上兩親性釕配合物的定向組裝：步驟（4）得到的石墨烯基底浸沒于兩親性釕配合物溶液中，輕微震蕩除去氣泡，在室溫下浸漬6~12h后取出用超純水清洗干凈后惰性氣體吹干，即得到兩親性釕配合物單分子膜定向修飾的石墨烯基片。

3.根據權利要求2所述的兩親性釕配合物單分子膜修飾的石墨烯基片的制備方法，其特征在于：?RCA溶液為氨水、H₂O₂和超純水按體積比1:1:5的比例混合而得的溶液。