[發明專利]一種雙e型電子槍的蒸鍍裝置及利用該裝置進行蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201410631828.7
• 申請日: 2014-11-11
• 公開（公告）號: CN104357799A
• 公開（公告）日: 2015-02-18
• 發明（設計）人: 譚毅;李鵬廷;姜大川;王登科
• 申請（專利權）人: 大連理工大學
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 李娜;李馨

1.一種雙e型電子槍的蒸鍍裝置，其特征在于：所述裝置包括蒸鍍室，蒸鍍室內設有兩個雙e型電子槍，e型電子槍I(1)用于加熱基板(5)，e型電子槍II(3)用于轟擊鍍膜材料(7)。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于：所述裝置包括用于承裝鍍膜材料(7)的坩堝(8)，所述坩堝(8)與基板(5)相對設置。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于：所述基板(5)通過支架(4)固定于蒸鍍室的頂部。

4.利用權利要求1所述裝置進行蒸鍍的方法，其特征在于：包括下述工藝步驟：

將鍍膜材料(7)放置在坩堝(8)中；對蒸鍍室進行抽真空，使真空度達到6.5×10^-3Pa以下；對兩個電子槍預熱，設置高壓為5～10kV，高壓預熱5～10min后，關閉高壓；設置電子槍束流為10～30mA，束流預熱5～10min，關閉電子槍束流；同時開啟電子槍高壓和束流，e型電子槍II(3)的高壓為5～10kV，束流大小為30～100mA，e型電子槍I(1)的高壓為5～10kV，束流大小為10～30mA，使得基板(5)溫度處于100～400℃；鍍膜至預期厚度后，關閉兩個電子槍，隨爐冷卻30～60min。