[發(fā)明專利]一種脫除高濃度含鎳電鍍廢水的處理方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410629118.0
• 申請日: 2014-11-10
• 公開（公告）號: CN104445715B
• 公開（公告）日: 2017-02-15
• 發(fā)明（設計）人: 嚴群;田延威
• 申請（專利權(quán)）人: 江南大學
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F103/16
• 代理公司: 北京愛普納杰專利代理事務所(特殊普通合伙)11419
• 代理人: 張勇

1.一種高濃度含鎳電鍍廢水的處理方法，其特征在于，主要包括以下步驟：

(1)將廢水導入預處理池，加入稀釋液稀釋廢水，混合攪拌使溶液完全混合，調(diào)節(jié)混合廢水的pH值，經(jīng)預沉淀后，上清液進入第一段的混合反應池；

(2)將預處理過的廢水導入第一段的混合反應池中，投加吸附劑改性硅酸鈣進行吸附反應，隨后進入到絮凝沉降池進行固液分離；

(3)第一段的固液分離的上清液進入到第二段的混合反應池中，投加吸附劑改性硅酸鈣進行吸附反應，隨后進入到絮凝沉降池進行固液分離；上清液為出水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述稀釋液為渡槽清洗液或污水處理車間清洗液，稀釋廢水倍數(shù)為1-100倍。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，采用氫氧化鈣或氫氧化鈉溶液調(diào)節(jié)pH。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，調(diào)節(jié)混合廢水pH值為6-10。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸附劑改性硅酸鈣，粒徑小于1μm；含有鈣來源物質(zhì)30％-60％、硅來源物質(zhì)30％-60％、分散劑0.3％-6％、水0％-30％，粒徑為1μm以下；其中，鈣來源物質(zhì)為硝酸鈣、氫氧化鈣或氯化鈣，硅來源物質(zhì)為硅酸鈉、硅酸鉀、正硅酸四乙酯或正硅酸鹽，分散劑為無水乙醇、聚乙二醇、乙二醇或丙三醇，分散劑的添加劑量是鈣源物質(zhì)質(zhì)量的1％-10％，鈣:硅摩爾比為0.5-2:1。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的方法，其特征在于，所述吸附劑制備方法包括以下步驟：(1)向鈣源、硅源溶解池中添加等體積的水；(2)向鈣源溶解池中添加鈣源物質(zhì)和分散劑，使得鈣源物質(zhì)終濃度在1mol/L以內(nèi)，分散劑質(zhì)量為鈣源物質(zhì)質(zhì)量的1％-10％；(3)向硅源溶解池中加硅源物質(zhì)，使兩溶解池中鈣硅摩爾比為0.5-2:1；(4)待兩溶解池中的物質(zhì)完全溶解后，將兩溶解池中的溶液以相同速度進入到混合反應池中進行混合反應，混合反應溫度為30-60℃，攪拌速度為100-250r/min，反應時間為6h；(5)將所得粗改性硅酸鈣用去離子水和無水乙醇先后洗滌過濾3次后，常溫或60℃干燥得到改性硅酸鈣成品。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，兩階段所述吸附劑的投加量均為0.5-10g/L，吸附反應時間為0.5-2h，絮凝沉降池的沉降時間為0.5-2h。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括將第一、二段的沉降污泥排入到脫附池中，利用脫附劑、解析液對吸附劑進行脫附解析回收利用。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述脫附劑為含有5-10mol/L醋酸和1mol/L醋酸鈉的溶液，脫附劑與污泥的用量比為1-2L:1g。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述解析液為含有1mol/L醋酸和5-10mol/L醋酸鈉的溶液，解析液與污泥的用量比為1-2L:1g。