[發明專利]一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法

有效

• 申請號: 201410621284.6
• 申請日: 2014-11-06
• 公開（公告）號: CN104298080A
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發明（設計）人: 朱鵬飛;陳林森;胡進;浦東林;袁曉峰
• 申請（專利權）人: 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/68
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

1.一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法，其特征在于，所述方法包括：

S1、設定搭接步距像素數與搭接次數，將欲曝光圖形沿版面寬度方向按搭接步距像素等像素分切成若干個高寬一致的二值位圖數據形成曝光數據隊列；

S2、按版面寬度方向設置的疊加曝光次數，在曝光數據隊列中按序選擇與搭接次數相同數量的二值位圖在內存中沿寬度方向拼接合并，形成一完整的新二值位圖；

S3、將新二值位圖上載到SLM空間光調制器中，設置每次顯示指令到來時上載的新二值位圖在SLM空間光調制器高度方向的顯示偏移量；

S4、精密運動平臺沿版面高度方向運動，每當平臺移動距離等于顯示成像偏移量時，曝光控制器給出顯示信號給SLM空間光調制器顯示圖形，同時觸發一次曝光光源出光，完成一次SLM顯示圖像的成像曝光；

S5、SLM空間光調制器顯示一幅圖像之后，根據高度方向的顯示偏移量設置值偏移下次顯示的圖像位置；

S6、重復步驟S4和S5，完成高度方向上一行圖形數據的寫入；

S7、精密運動平臺沿版面寬度方向偏移，偏移量等于寬度方向上設置的搭接步距像素數成像距離；

S8、去除最先寫入的曝光數據隊列，并加入下一行曝光數據隊列，形成另一完整的新二值位圖；

S9、重復步驟S3～S7，完成整個曝光圖形的成像曝光。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光光源為脈沖光源或連續光源。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S3中SLM空間光調制器顯示圖形為全屏顯示或窗口顯示。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述精密運動平臺包括X方向和Y方向，SLM空間光調制器高度方向圖形成像在基板上與曝光版面高度方向相同對應精密運動平臺X方向，SLM空間光調制器寬度方向圖形成像在基板上與曝光版面寬度方向相同對應精密運動平臺Y方向。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述曝光方法過程為：

欲曝光圖形完成X方向一整行曝光之后，Y方向步進偏移進入下一行曝光。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光方法還包括：

設置不同SLM空間光調制器高度方向顯示偏移量、版面寬度方向的搭接步距像素數與搭接次數，實現多種疊加曝光的效果。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S3中“將新二值位圖上載到SLM空間光調制器中”之前還包括：去除新二值位圖的位圖頭信息。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S1前還包括：

對欲曝光圖形四周邊緣添加一定空白區域，實現實際寫入圖形的完全搭接。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S4“觸發一次曝光光源出光”中曝光光源為脈沖光源或連續光源，所述曝光光源為脈沖光源時，觸發出光時長在100納秒以內，所述曝光光源為連續光源時，觸發出光時長在500微秒以內。