[發明專利]反應氣體輸送裝置及化學氣相沉積或外延層生長反應器

在審

• 申請號: 201410620810.7
• 申請日: 2014-11-06
• 公開（公告）號: CN105624645A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 姜銀鑫;杜志游
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 王潔

1.一種反應氣體輸送裝置，用于化學氣相沉積或外延層生長反應器，其特征 在于，包括：

從上往下依次設置的一頂板、一隔離板和一氣體輸送板，所述頂板與 所述隔離板相互間隔而于二者之間形成第一氣體擴散區域，所述隔離板和 所述氣體輸送板相互間隔而于二者之間形成第二氣體擴散區域；

所述氣體輸送板為一體形成之板體，其包括一上表面，所述上表面上 沿某一水平方向上開設有相互平行排列的多個縱長形第一氣體擴散槽和 多個縱長形第二氣體擴散槽，并且每一所述第一氣體擴散槽和每一所述第 二氣體擴散槽相互間隔排列設置，所述每一第一氣體擴散槽下方還開設連 接有一縱長形第一氣體出氣通道并且二者相連通，所述每一第二氣體擴散 槽下方還開設連接有一縱長形第二氣體出氣通道并且二者相連通；所述每 一第一氣體擴散槽和與之相鄰的每一第二氣體擴散槽之間向下延伸設置 有一縱長形的氣體導流條；所述每一縱長形的氣體導流條內部設置有一縱 長形的冷卻管道，所述每一縱長形的氣體導流條的下表面設有具一定弧度 的弧形或設為尖錐形；

所述每一第一氣體擴散槽上還進一步連接設置有至少一根與所述第 一氣體擴散區域相連通的第一氣體輸送管。

2.如權利要求1所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述每一縱長形第 一氣體出氣通道與所述每一縱長形第二氣體出氣通道相互平行排列,并且 相互間隔排列設置。

3.如權利要求1或2所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述縱長形第 一氣體出氣通道為一縱長形的縫隙通道。

4.如權利要求1或2所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述縱長形第 二氣體出氣通道為一縱長形的縫隙通道。

5.如權利要求1或2所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述縱長形第 一氣體出氣通道包括若干個孔通道，所述若干個孔通道整體上構成一縱長 形的出氣通道。

6.如權利要求1或2所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述縱長形第 二氣體出氣通道包括若干個孔通道，所述若干個孔通道整體上構成一縱長 形的出氣通道。

7.如權利要求1或2所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述每一縱長 形的氣體導流條位于每一縱長形第一氣體出氣通道和每一縱長形第二氣 體出氣通道之間。

8.如權利要求7所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述縱長形的氣體 導流條的下表面為向反應氣體工藝處理區域凸出的弧形表面。

9.如權利要求7所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述縱長形的氣體 導流條的下表面為向反應氣體工藝處理區域凹陷的弧形表面。

10.如權利要求9所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述向工藝處理區 域凹陷的弧形表面與所述第一氣體出氣通道和第二氣體出氣通道的通道 側面連接處為弧形。

11.如權利要求1所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述每一縱長形的 氣體導流條兩側分別連接一縱長形的子氣體導流條，所述氣體導流條與所 述子氣體導流條相互平行并相互間隔一距離設置，二者之間形成一子氣體 通道，所述子氣體通道與所述第一氣體出氣通道或第二氣體出氣通道在豎 直的截面方向上呈一銳角。

12.如權利要求1所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述第一氣體出氣 通道為寬度小于第一氣體擴散槽槽寬度的縱長形的縫隙通道或直徑小于 第一氣體擴散槽槽寬度的若干孔通道；第二氣體出氣通道為寬度小于第二 氣體擴散槽槽寬度的縱長形的縫隙通道或直徑小于第二氣體擴散槽槽寬 度的若干孔通道。

13.如權利要求1所述的反應氣體輸送裝置，其特征在于：所述氣體輸送裝置 至少包括邊緣區域和中心區域，位于所述邊緣區域內的第一和第二氣體出 氣通道的截面豎直長度與位于所述中心區域內的第一和第二氣體出氣通 道的截面豎直長度不相同或相同。