[發(fā)明專利]離軸拋物面鏡焦距的檢測裝置與檢測方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410620690.0
• 申請日: 2014-11-06
• 公開（公告）號: CN104359655A
• 公開（公告）日: 2015-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 施麗敏
• 申請（專利權(quán)）人: 上海現(xiàn)代先進超精密制造中心有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 張寧展

1.一種離軸拋物面鏡焦距的檢測裝置，其特征在于，該裝置由斐索干涉儀(1)及其標準平面鏡(2)、五維調(diào)整架(6)、補償小球(4)及其三維調(diào)整架(5)、輔助圓柱(9)、承托固定底板(7)和三坐標測量機(8)組成；

所述的標準平面鏡(2)是所述的斐索干涉儀(1)的光束輸出窗口；

所述的五維調(diào)整架(6)的頂面固定有一基座，在該基座一端固定有待測離軸拋物面鏡(3)，另一端設(shè)有與該待測離軸拋物面鏡具有同一曲面的輔助圓柱(9)；

所述的五維調(diào)整架(6)、補償小球(4)及其三維調(diào)整架(5)固定在承托固定底板(7)上，所述的斐索干涉儀(1)位于所述的基座擺放待測離軸拋物面鏡的正上方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離軸拋物面鏡焦距的檢測裝置，其特征在于，所述的輔助圓柱(9)的直徑為5-15mm。

3.一種利用權(quán)利要求1所述的離軸拋物面鏡焦距的檢測裝置檢測待測離軸拋物面鏡焦距的方法，其特征在于，該方法包括下列步驟：

①根據(jù)待測離軸拋物面鏡的尺寸，選擇合適的標準平面鏡安裝到所述的斐索干涉儀上，標準平面鏡的選擇以最大限度利用斐索干涉儀的出射光能，即確保斐索干涉儀的出射光全部照射在該待測離軸拋物面鏡上；

②將待測離軸拋物面鏡(3)和輔助圓柱(9)固定在五維調(diào)整架(5)上；

③將五維調(diào)整架(6)、補償小球(4)及其三維調(diào)整架(5)粗略固定在承托固定底板(7)上，使補償小球(4)的球心到輔助圓柱(9)的表面中心點的距離與待測離軸拋物面鏡(3)的理論焦距相等；

④調(diào)整五維調(diào)整架(6)，使基座的上表面處于水平，開啟所述的斐索干涉儀，該斐索干涉儀發(fā)出的光束經(jīng)所述的標準球面鏡全部照射在基座上的待測離軸拋物面鏡(3)；

調(diào)整五維調(diào)整架(6)的高度，使斐索干涉儀發(fā)出的光束的中心高度和待測離軸拋物面鏡(3)與光路垂直方向的中心高度一致；

⑤通過對三維調(diào)整架(5)、五維調(diào)整架(6)的調(diào)整使補償小球(4)的球心置于待測離軸拋物面鏡的焦點(F)的位置上；

⑥所述的斐索干涉儀上即得到待測離軸拋物面鏡的面型；

⑦將承托固定底板(7)及其上面固定的待測離軸拋物面鏡(3)、五維調(diào)整架(6)、補償小球(4)與三維調(diào)整架(5)整體放在三坐標測量機，測量得到的待測離軸拋物面鏡(3)的頂點到補償小球(4)的球心距離即待測離軸拋物面鏡的實際焦距。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的檢測待測離軸拋物面鏡焦距的方法，其特征在于，所述的待測離軸拋物面鏡(3)和輔助圓柱(9)的加工方法如下：

在待測離軸拋物面鏡(3)的理論頂點處放置一塊以該待測離軸拋物面鏡頂點的法線為旋轉(zhuǎn)軸的、直徑為5-15mm、其中一個截面與被測離軸拋物面鏡的拋物面為同一拋物面的輔助圓柱(9)，與待測離軸拋物面鏡一同加工，由加工設(shè)備確保這一輔助柱體的截面與待測離軸拋物面為同一拋物面，同時確保該輔助圓柱(9)的軸與該待測離軸拋物面鏡的法線重合。