[發明專利]利用酞菁鎳配合物進行微接觸印刷石墨烯/銀復合圖案的方法有效
| 申請號: | 201410620025.1 | 申請日: | 2014-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN104312264A | 公開(公告)日: | 2015-01-28 |
| 發明(設計)人: | 蘇煒;李培源;龐錦英 | 申請(專利權)人: | 廣西師范學院 |
| 主分類號: | C09D11/02 | 分類號: | C09D11/02 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 靳浩 |
| 地址: | 530001 廣西壯族自*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 酞菁鎳 配合 進行 接觸 印刷 石墨 復合 圖案 方法 | ||
1.利用酞菁鎳配合物進行微接觸印刷石墨烯/銀復合圖案的方法,其特征在于:?
該酞菁鎳配合物為八甲基酞菁鎳,具有以下結構式:?
將八甲基酞菁鎳的二氯甲烷溶液作為微接觸印刷的印刷劑,將PDMS印章的圖案轉移至聚酰亞胺基底,再吸附還原石墨烯和銀,最終在基底上得到精美的金屬圖案;?
具體步驟如下:?
1、將聚酰亞胺基底泡于5wt%的3-氨丙基三乙氧基硅烷的乙醇溶液中,浸泡1小時,用蒸餾水洗凈,通N2干燥;?
2、將羧基化氧化石墨烯溶于水中,超聲1分鐘使其均勻溶解,濃度為0.1-2g/L;?
3、將八甲基酞菁鎳溶于二氯甲烷中,濃度為1-10g/L;?
4、將PDMS印章浸泡于所述八甲基酞菁鎳二氯甲烷溶液中1-2分鐘,取出后于N2氣流中干燥30-60s,將上述PDMS印章蓋于基底上,輕壓10-20s,將PDMS印章圖案轉移至基底表面,得到印有圖案的基底;?
5、將印有圖案的基底浸泡于由1L石墨烯溶液和1L5wt%硝酸銀、7wt%酒石酸鈉鉀、5wt%氫氧化鈉、40wt%甲醛和43wt%蒸餾水組成的混合溶液中,時間為3-5min,取出后即可在基底上得到精美的石墨烯/銀圖案。?
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