[發明專利]一種烷烴雜質深度凈化方法

有效

• 申請號: 201410617368.2
• 申請日: 2014-11-05
• 公開（公告）號: CN104402663A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發明（設計）人: 周廣林;王曉勝;周紅軍
• 申請（專利權）人: 中國石油大學(北京)
• 主分類號: C07C9/08
• 分類號: C07C9/08;C07C9/10;C07C9/18;C07C9/15;C07C9/12;C07C7/00;C07C7/13
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 姚亮

1.一種烷烴雜質深度凈化方法，其包括以下步驟：

(1)使待凈化的烷烴與堿溶液接觸；

(2)然后與銅類吸附劑接觸；

(3)之后與選擇性吸附極性化合物的吸附劑接觸，得到深度凈化后的烷烴。

2.根據權利要求1所述的烷烴雜質深度凈化方法，其中，步驟(2)中的銅類吸附劑填裝于吸附床中，與所述銅類吸附劑的接觸為與含有所述銅類吸附劑的吸附床的接觸；步驟(3)中的選擇性吸附極性化合物的吸附劑填裝于吸附床中，與所述選擇性吸附極性化合物的吸附劑的接觸為與含有所述選擇性吸附極性化合物吸附劑的吸附床的接觸。

3.根據權利要求1所述的烷烴雜質深度凈化方法，其還包括以下步驟：在再生條件下，使吸附有極性化合物的選擇性吸附極性化合物的吸附劑與加熱后的再生劑蒸汽流接觸，以解吸所述極性化合物，并得到廢棄的再生劑；冷卻所述廢棄的再生劑，以分離出烴相和水相。

4.根據權利要求3所述的烷烴雜質深度凈化方法，其還包括以下步驟：將所述烴相中的至少一部分進行壓縮后回用作為再生劑的至少一部分。

5.根據權利要求1或3所述的烷烴雜質深度凈化方法，其還包括以下步驟：將步驟(3)得到的深度凈化后的烷烴中的至少一部分作為再生劑的至少一部分。

6.根據權利要求3所述的烷烴雜質深度凈化方法，其中，所述再生條件為溫度149℃-300℃，壓力0.1MPa-3.50MPa。

7.根據權利要求3所述的烷烴雜質深度凈化方法，其中，所述再生劑包括丙烷、正丁烷、異丁烷、戊烷、碳五異構烷烴和碳六異構烷烴中的一種或幾種的組合。

8.根據權利要求1或2所述的烷烴雜質深度凈化方法，其中，所述銅類吸附劑為以單質態的銅、還原態的銅和氧化態的銅中的一種或幾種的組合作為主要活性組分的吸附劑；優選地，所述銅類吸附劑為銅和/或氧化銅為主要活性組分的吸附劑；更優選地，該吸附劑中還包括Zn、Mn、Fe、Co、Ag、La和Cs中的一種或幾種的組合作為其他活性組分；最優選地，所述銅類吸附劑為CuY分子篩。

9.根據權利要求1或2所述的烷烴雜質深度凈化方法，其中，所述選擇性吸附極性化合物的吸附劑為分子篩，其包括天然八面沸石、A型分子篩、X型分子篩、Y型分子篩和L型分子篩中的一種或幾種的組合；優選地，所述選擇性吸附極性化合物的吸附劑為13X型分子篩。

10.根據權利要求1所述的烷烴雜質深度凈化方法，其中，步驟(1)、(2)和(3)是分別在15℃-66℃的溫度下、0.1MPa-3.50MPa的壓力下進行的，步驟(1)中的待凈化的烷烴與堿溶液接觸的停留時間為5-90min，步驟(2)和(3)中的液空速分別為0.5-4h^-1。