[發(fā)明專利]一種球?qū)訝盍蚧R薄膜制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410616579.4 | 申請(qǐng)日: | 2014-11-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104402049A | 公開(公告)日: | 2015-03-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉劍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 唐山學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C01G30/00 | 分類號(hào): | C01G30/00 |
| 代理公司: | 唐山順誠專利事務(wù)所 13106 | 代理人: | 于文順 |
| 地址: | 063000*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 層狀 硫化銻 薄膜 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種球?qū)訝盍蚧R薄膜制備方法,屬于液相沉積制備功能材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
硫化銻(Sb2S3)是具有高度各向異性和正交晶相層狀結(jié)構(gòu)的主族金屬硫化物A2S3中的一種。硫化銻是一種直接能帶半導(dǎo)體,因?yàn)槠浔菊髂軒禐?.72eV,處于太陽光譜的可見光區(qū)且具有良好的光量子效應(yīng),其極好的光電導(dǎo)性和高熱電性能被廣泛用于各種光電子器件。
常用來制備Sb2S3薄膜的方法有仿生法、水熱法、無水化學(xué)沉積法、氣相沉積法、高溫分解法、熱真空噴鍍法和電鍍法等。以上這些薄膜技術(shù)往往需要復(fù)雜的技術(shù)設(shè)備或嚴(yán)格的制備環(huán)境,例如水熱法是在高溫高壓環(huán)境下完成的,而氣相沉積是在氣相儀上實(shí)現(xiàn)的,熱真空噴鍍法需要一定的真空度和保護(hù)氣氛;氣相沉積方法多在電容式耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)上進(jìn)行,實(shí)際生產(chǎn)中由于對(duì)技術(shù)設(shè)備條件要求高,使得設(shè)備昂貴,又因腐蝕嚴(yán)重使得組裝代價(jià)高,成本一般讓人難以接受。相比之下,高溫?zé)岱纸夥▌t具有工藝設(shè)備簡單,低成本等優(yōu)點(diǎn),但其工藝也有不足之處,例如制備過程中需加入大量的有機(jī)溶劑,不但使制備成本增高,同時(shí)在后續(xù)的干燥和煅燒過程中不易逸出的有機(jī)溶劑會(huì)產(chǎn)生碳污染等。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種球?qū)訝盍蚧R薄膜制備方法,利用piranha(濃硫酸與雙氧水的混合物)化學(xué)與液相沉積技術(shù)相結(jié)合,在玻璃基板上沉積球?qū)訝盍蚧R薄膜,具有不需昂貴機(jī)械設(shè)備、制備工藝流程簡單、操作方便等特點(diǎn),解決背景技術(shù)中存在的上述問題。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:
一種球?qū)訝盍蚧R薄膜制備方法,包含如下步驟:
①?基板前期處理
裁剪后的玻璃基片先后置于蒸餾水、丙酮、無水乙醇中超聲清洗30min,然后置于piranha溶液中浸泡處理5-60min,取出后氮?dú)獯蹈蓚溆茫?/p>
②?薄膜前驅(qū)液配制
將分析純0.003mol?Na2S2O3·5H2O溶解于去離子水中,將分析純0.002mol?SbC13·2H2O溶解于濃HCl中,然后將兩種溶液混合后定容,在磁力攪拌器上攪拌溶液5min,滴加氨水調(diào)解前驅(qū)液pH值于2-5之間;
③將步驟????????????????????????????????????????????????中處理后的基片置于步驟配置的前驅(qū)液中進(jìn)行薄膜沉積,沉積時(shí)間為4-24h,沉積溫度為30-60℃;
將最后沉積完成的薄膜在200-600℃條件下進(jìn)行2h熱處理,最終得到球?qū)訝盍蚧R薄膜。
本發(fā)明的積極效果是:本發(fā)明相對(duì)于現(xiàn)有的硫化銻薄膜制備技術(shù),克服水熱法的高溫高壓環(huán)境、熱真空噴鍍法的苛刻真空條件、氣相沉積需要昂貴機(jī)械設(shè)備、高溫分解法的有機(jī)溶劑污染等技術(shù)缺陷;利用piranha溶液處理基板技術(shù)與液相沉積技術(shù)相結(jié)合,可以在玻璃基板上制備出層球狀的硫化銻薄膜,而且制備設(shè)備價(jià)格低廉、制備環(huán)境常溫常壓、制備工藝流程簡單。
附圖說明
圖1是本發(fā)明實(shí)施例1制備的球?qū)訝盍蚧R薄膜XRD圖;
圖2是本發(fā)明實(shí)施例1制備的球?qū)訝盍蚧R薄膜SEM圖;
圖3是本發(fā)明實(shí)施例2制備的球?qū)訝盍蚧R薄膜SEM圖;
圖4是本發(fā)明實(shí)施例3制備的球?qū)訝盍蚧R薄膜SEM圖;
圖5是本發(fā)明實(shí)施例4制備的球?qū)訝盍蚧R薄膜SEM圖;
圖6是本發(fā)明實(shí)施例5制備的球?qū)訝盍蚧R薄膜SEM圖。
具體實(shí)施方式
下面通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明
一種球?qū)訝盍蚧R薄膜制備方法,包含如下步驟:
①???基板前期處理
裁剪后的玻璃基片先后置于50ml蒸餾水、50ml丙酮、50ml無水乙醇中超聲清洗30min,然后置于piranha溶液中浸泡處理5-60min,取出后氮?dú)獯蹈蓚溆茫籶iranha溶液為H2SO4與H2O2混合溶液,兩者體積比3:1;
②???薄膜前驅(qū)液配制
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