[發明專利]一種包含雙氧化劑的GST化學機械拋光液及其制備方法和用途有效
| 申請號： | 201410610365.6 | 申請日： | 2014-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN104403570A | 公開（公告）日： | 2015-03-11 |
| 發明（設計）人： | 閆未霞;劉衛麗;宋志棠 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所;上海新安納電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C09G1/02 | 分類號： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人： | 張艷;李慧 |
| 地址： | 200050 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 包含 氧化劑 gst 化學 機械拋光 及其 制備 方法 用途 | ||
1.一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其原料按重量份計，包括如下組分：
所述雙氧化劑化學機械拋光液的pH值的范圍為2-6。
2.如權利要求1所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其原料按重量份計，包括如下組分：
所述雙氧化劑化學機械拋光液的pH值的范圍為2-6。
3.如權利要求1所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述雙氧化劑的GST化學機械拋光液中包括0.01-1份pH調節劑，所述雙氧化劑的GST化學機械拋光液的pH值的范圍為3-5。
4.如權利要求1所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述pH調節劑選自氨水、羥乙基乙二氨水溶液、硝酸水溶液和鹽酸水溶液中的一種或多種的組合。
5.如權利要求4所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述拋光顆粒為二氧化硅溶膠。
6.如權利要求5所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述二氧化硅溶膠的溶劑為水，固含量為25-35％，顆粒的粒徑為80-120nm。
7.如權利要求1所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑A選自鐵氰化鉀、高錳酸鉀、高碘酸和雙氧水中的一種或多種的組合。
8.如權利要求1所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑B選自具有氧化性的鹽。
9.如權利要求9所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑B選自硝酸鈉，鉻酸鈉，鉬酸鈉，亞硝酸鈉等中的一種或多種的組合。
10.如權利要求1所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述表面活性劑為陰離子型表面活性劑。
11.如權利要求10所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述陰離子型表面活性劑選自脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、聚丙烯酸鈉和脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一種或多種的組合。
12.如權利要求11所述的一種雙氧化劑的GST化學機械拋光液，其特征在于，所述脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉的平均分子量為357-412，所述聚丙烯酸鈉的平均分子量為900-25000，所述脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯的平均分子量為850-52000。
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