[發明專利]一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃

無效

• 申請號: 201410606423.8
• 申請日: 2014-10-30
• 公開（公告）號: CN104339784A
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 禹幸福;陳圓
• 申請（專利權）人: 中山市亨立達機械有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B9/04;B32B15/04;C03C17/36
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

技術領域：

本發明涉及一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃。

背景技術：

LOW-E玻璃，是一種高端的低輻射玻璃，是在玻璃基材表面鍍制包括銀層在內的多層金屬及其它化合物組成的膜系產品。

隨著現代建筑的發展，人們審美觀念的提高，對幕墻玻璃的外觀色調與整體的建筑的協調性越來越受到人們的關注。而在眾多顏色中湖水蘭代表著高貴與典雅，設計師總試圖將湖水蘭應用到建筑幕墻上，但目前的鍍膜廠家僅能局限于生產成本較高的湖水蘭的陽光控制膜玻璃。

故有必要對現有的單銀LOW-E玻璃作出改進，以提供一種成本較低的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃。

發明內容：

本發明的目的在于提供一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，其結構簡單，成本較低，可呈現鮮艷的湖水蘭色調。

一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設有TiO_x底層介質層、第一NiCrOx膜層、AZO平整層、Ag層、第二NiCrOx膜層、ZnSnO₂介質層、以及Si₃N₄頂層介質層；所述第一NiCrOx膜層的厚度為1.6nm，所述Ag層的厚度為5.4nm，第二NiCrOx膜層的厚度為1.1nm。

本發明可通過如下方案進行改進：

所述TiO_x底層介質層的厚度為9nm。

所述AZO平整層的厚度為5.8nm。

所述ZnSnO₂介質層的厚度為12.6nm。

所述Si₃N₄頂層介質層的厚度為3.5nm。

本發明具有如下優點：1、本發明結構簡單，創造性地采用普通白色浮法玻璃作為玻璃基材，合理調整第一NiCrOx膜層、Ag層、第二NiCrOx膜層的厚度，鍍上相應的膜層后，產生色澤鮮艷的湖水蘭的外觀效果，通過色度儀可以測得色度指標b^*達到-18，呈現鮮艷的湖水蘭色調，且成本較低。2、具有比傳統單銀LOW-E玻璃更低的輻射率。

附圖說明：

圖1為本發明結構剖視圖。

具體實施方式：

如圖所示，一種用白玻制備的湖水蘭色單銀LOW-E玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1為白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次設有TiO_x底層介質層2、第一NiCrOx膜層3、AZO平整層4、Ag層5、第二NiCrOx膜層6、ZnSnO₂介質層7、以及Si₃N₄頂層介質層8；所述第一NiCrOx膜層3的厚度為1.6nm，所述Ag層5的厚度為5.4nm，第二NiCrOx膜層6的厚度為1.1nm。

進一步地，所述TiO_x底層介質層2的厚度為9nm。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用交流中頻電源、以氬氣為濺射氣體、氧氣作反應氣體射陶瓷鈦靶，最終在玻璃基材1上形成TiO_x底層介質層2，其中，氬氧比為(400SCCM～420SCCM)：(50SCCM～60SCCM)，氬氧比是該膜層的核心，決定了成膜的TiO_x的價態,x本專利提供的TiO_x的價態，x＝1.7～2.0。這決定了TiO_x膜層的折射率在2.0～2.2之間，提高了玻璃基底的透過率。

再進一步地，所述第一NiCrOx膜層3，是本專利的核心，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射鎳鉻合金、用氬氣作為濺射氣體、摻入少量氧氣制備而成，其中，氬氧比為：(400SCCM～420SCCM):(20～40SCCM)，最終形成第一NiCrOx膜層3，可提高膜層耐磨性、提高透光率、提高鋼化時抗高溫氧化性。

再進一步地，所述AZO平整層4的厚度為5.8nm，用于平滑Ag層5。其采用磁控濺射鍍膜工藝，用中頻交流電源濺射陶瓷Zn(AZO)靶、用氬氣作為濺射氣體、摻入少量氧氣制備而成，其中，氬氧比為：(400SCCM～420SCCM):(20～40SCCM),最終形成AZO平整層4，為Ag層5作鋪墊，降低輻射率。

又進一步地，所述Ag層5，為功能層，其采用磁控濺射鍍膜工藝，用直流電源濺射銀靶、用氬氣作為濺射氣體制備而成，氣體流量500～550SCCM，最終形成Ag層5。