[發明專利]一種AlSiC復合基板的高性能絕緣層在審
| 申請號： | 201410604491.0 | 申請日： | 2014-10-31 |
| 公開（公告）號： | CN104347782A | 公開（公告）日： | 2015-02-11 |
| 發明（設計）人： | 李國強;凌嘉輝;楊美娟 | 申請（專利權）人： | 華南理工大學 |
| 主分類號： | H01L33/48 | 分類號： | H01L33/48;H01L33/64 |
| 代理公司： | 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245 | 代理人： | 陳文姬 |
| 地址： | 510640 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 alsic 復合 性能 絕緣 | ||
【權利要求書】：
1.一種AlSiC復合基板的高性能絕緣層，其特征在于，包括AlSiC復合基板、類鉆碳薄膜和氮化鋁薄膜，所述類鉆碳薄膜沉積在AlSiC復合基板上；所述氮化鋁薄膜沉積在類鉆碳薄膜上。
2.根據權利要求1所述的AlSiC復合基板的高性能絕緣層，其特征在于，所述類鉆碳薄膜的厚度為10μm-40μm。
3.根據權利要求1所述的AlSiC復合基板的高性能絕緣層，其特征在于，所述的氮化鋁薄膜的厚度為5μm-30μm。
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