[發(fā)明專(zhuān)利]點(diǎn)云修補(bǔ)方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410600761.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-10-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105631936A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳新元;張旨光;謝鵬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 富泰華工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06T17/30 | 分類(lèi)號(hào): | G06T17/30 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 謝志為 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市寶安區(qū)觀瀾街道大三社*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 修補(bǔ) 方法 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種點(diǎn)云處理方法及系統(tǒng),尤其是涉及一種修補(bǔ)缺失點(diǎn)云的方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
三維掃描設(shè)備掃描待量測(cè)產(chǎn)品生成點(diǎn)云時(shí),由于掃描設(shè)備本身的原因或者其他外界因素的干擾,在三維掃描設(shè)備難以掃描到的位置及貼有標(biāo)志點(diǎn)的位置會(huì)造成點(diǎn)云的缺失?,F(xiàn)有的點(diǎn)云處理系統(tǒng)中,點(diǎn)云修補(bǔ)一般通過(guò)簡(jiǎn)單點(diǎn)云擬合缺失曲面,用曲面上的點(diǎn)填補(bǔ)缺失處的點(diǎn)。該種點(diǎn)云修補(bǔ)方法容易造成缺失處填充痕跡明顯,而且可能導(dǎo)致點(diǎn)云的失真及變形。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上內(nèi)容,有必要提供一種點(diǎn)云修補(bǔ)方法及系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)缺失點(diǎn)云的高精度修補(bǔ),既確保了填充的自然性,又保證了待量測(cè)產(chǎn)品的形狀不會(huì)改變。
一種點(diǎn)云修補(bǔ)方法,應(yīng)用于電子裝置中,該方法包括步驟:(a)導(dǎo)入產(chǎn)品的點(diǎn)云數(shù)據(jù),以及接收用戶輸入的點(diǎn)間距及曲率過(guò)濾參數(shù);(b)在所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中確定一個(gè)待修補(bǔ)區(qū)域,并確定該待修補(bǔ)區(qū)域的最小包圍盒;(c)于該待修補(bǔ)區(qū)域外且該最小包圍盒內(nèi)選取預(yù)設(shè)數(shù)量的點(diǎn),將所選取的點(diǎn)擬合成B樣條曲面;(d)根據(jù)所述點(diǎn)間距在B樣條曲面上插值以獲得多個(gè)離散點(diǎn),并將該多個(gè)離散點(diǎn)填補(bǔ)至所述待修補(bǔ)區(qū)域中;(e)根據(jù)所述點(diǎn)間距及曲率過(guò)濾參數(shù),確定并刪除所述待修補(bǔ)區(qū)域的雜亂點(diǎn);(f)判斷所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中是否還存在其他的待修補(bǔ)區(qū)域,當(dāng)所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中還存在其他的待修補(bǔ)區(qū)域時(shí),返回步驟(b);及當(dāng)所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中不存在其他的待修補(bǔ)區(qū)域時(shí),對(duì)經(jīng)過(guò)填補(bǔ)的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行平滑處理。
一種點(diǎn)云修補(bǔ)系統(tǒng),運(yùn)行于電子裝置中,該系統(tǒng)包括:數(shù)據(jù)接收模塊,用于導(dǎo)入產(chǎn)品的點(diǎn)云數(shù)據(jù),以及接收用戶輸入的點(diǎn)間距及曲率過(guò)濾參數(shù);區(qū)域確定模塊,用于當(dāng)所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中存在待修補(bǔ)區(qū)域時(shí),在所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中確定一個(gè)待修補(bǔ)區(qū)域,并確定該待修補(bǔ)區(qū)域的最小包圍盒;曲面擬合模塊,用于在該待修補(bǔ)區(qū)域外且該最小包圍盒內(nèi)選取預(yù)設(shè)數(shù)量的點(diǎn),將所選取的點(diǎn)擬合成B樣條曲面;孔洞填補(bǔ)模塊,用于根據(jù)所述點(diǎn)間距在B樣條曲面上插值以獲得多個(gè)離散點(diǎn),并將該多個(gè)離散點(diǎn)填補(bǔ)至所述待修補(bǔ)區(qū)域中;過(guò)濾模塊,用于根據(jù)所述點(diǎn)間距及曲率過(guò)濾參數(shù),確定并刪除所述待修補(bǔ)區(qū)域的雜亂點(diǎn);判斷模塊,用于判斷所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中是否還存在其他的待修補(bǔ)區(qū)域;及平滑處理模塊,用于當(dāng)所述點(diǎn)云數(shù)據(jù)中不存在其他的待修補(bǔ)區(qū)域時(shí),對(duì)經(jīng)過(guò)填補(bǔ)的點(diǎn)云數(shù)據(jù)進(jìn)行平滑處理。
相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明所提供的點(diǎn)云修補(bǔ)方法及系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)缺失點(diǎn)云的高精度修補(bǔ),既確保了填充的自然性,又保證了待量測(cè)產(chǎn)品的形狀不會(huì)改變。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明點(diǎn)云修補(bǔ)系統(tǒng)較佳實(shí)施例的硬件架構(gòu)圖。
圖2是本發(fā)明點(diǎn)云修補(bǔ)系統(tǒng)較佳實(shí)施例的功能模塊圖。
圖3是本發(fā)明點(diǎn)云修補(bǔ)方法較佳實(shí)施例的作業(yè)流程圖。
圖4是本發(fā)明所生成的三次B樣條曲面的示例圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
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