[發明專利]真空閥填料密封結構

在審

• 申請號: 201410595550.2
• 申請日: 2014-10-30
• 公開（公告）號: CN104329463A
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 李立光
• 申請（專利權）人: 重慶山能儀表有限公司
• 主分類號: F16J15/16
• 分類號: F16J15/16;F16K41/02
• 代理公司: 重慶強大凱創專利代理事務所(普通合伙) 50217
• 代理人: 黃書凱

1.真空閥填料密封結構，包括封閉閥蓋填料腔上端口的填料壓蓋，其特征在于，所述填料壓蓋的內壁開有密封凹槽，該密封凹槽內安裝有O型密封圈；填料腔的底部設置有底墊，填料壓蓋與底墊之間依次設置有第一襯墊、第一V形填料第二襯墊、隔環、第三襯墊、第二V形填料和第四襯墊，第一V形填料和第二V形填料的V角開口方向相反，隔環處設置填充有密封劑。

2.根據權利要求1所述的真空閥填料密封結構，其特征在于：所述第一V形填料的V角朝上、第二V形填料的V角朝下。

3.根據權利要求2所述的真空閥填料密封結構，其特征在于：所述第一V形填料和第二V形填料均為四氟填料。

4.根據權利要求2所述的真空閥填料密封結構，其特征在于：所述密封劑為聚硫密封劑。