[發明專利]放射線敏感性樹脂組合物、聚合物及抗蝕劑圖案形成方法

有效

• 申請號: 201410593866.8
• 申請日: 2010-11-16
• 公開（公告）號: CN104391429B
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 切通優子;成岡岳彥;西村幸生;淺野裕介;川上峰規;中島浩光
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/004;C08F220/22;G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 左嘉勛;顧晉偉

1.一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有：

[A]具有以下式(1-2)表示的結構單元(Ⅰ)、且氟原子含量在5質量％以上的聚合物，

[B]具有酸解離性基團、且氟原子含量低于5質量％的聚合物，以及

[C]放射線敏感性酸產生劑；

式(1-2)中，R¹為氫原子、碳原子數為1～4的烷基或者具有鹵素原子的碳原子數為1～4的烷基；

式(1-2)中，R⁵為烷基；R⁶為烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基；R⁶多個存在時，多個R⁶相同或不同；R⁶的氫原子的一部分或者全部可以被取代；e為1或者2；f為0～5的整數；

[A]聚合物進一步具有以下式(2-2)表示的結構單元(Ⅱ)；

式(2-2)中，R¹為氫原子、碳原子數為1～4的烷基或者具有鹵素原子的碳原子數為1～4的烷基；

式(2-2)中，R⁷為(g+1)價的連接基團；R⁸為氫原子或者1價的有機基團；R⁸多個存在時，多個R⁸相同或不同；Rf²和Rf³各自獨立地為氫原子、氟原子或者碳原子數1～30的氟代烴基；其中，Rf²和Rf³兩者不同時為氫原子；Rf²或Rf³多個存在時，多個Rf²和Rf³彼此相同或不同；g為1～3的整數，

[A]聚合物進一步具有包含選自分別以下式(4-1)和(4-2)表示的多個基團中的至少1種基團的結構單元；

式(4-1)中，R⁴¹是被氟原子取代的碳原子數為1～10的烴基。

2.根據權利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，[A]聚合物相對于100質量份[B]聚合物的含量為0.1質量份～20質量份。

3.一種聚合物，其特征在于，具有以下式(1-2)表示的結構單元(Ⅰ)，且氟原子含量在5質量％以上；

式(1-2)中，R¹為氫原子、碳原子數為1～4的烷基或者具有鹵素原子的碳原子數為1～4的烷基；

式(1-2)中，R⁵為烷基；R⁶為烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基；R⁶多個存在時，多個R⁶相同或不同；R⁶的氫原子的一部分或者全部可以被取代；e為1或者2；f為0～5的整數；

該聚合物進一步具有以下式(2-2)表示的結構單元(Ⅱ)；

式(2-2)中，R¹為氫原子、碳原子數為1～4的烷基或者具有鹵素原子的碳原子數為1～4的烷基；

式(2-2)中，R⁷為(g+1)價的連接基團；R⁸為氫原子或者1價的有機基團；R⁸多個存在時，多個R⁸相同或不同；Rf²和Rf³各自獨立地為氫原子、氟原子或者碳原子數1～30的氟代烴基；其中，Rf²和Rf³兩者不同時為氫原子；Rf²或Rf³多個存在時，多個Rf²和Rf³彼此相同或不同；g為1～3的整數，

該聚合物進一步具有包含選自分別以下式(4-1)和(4-2)表示的基團中的至少1種基團的結構單元；

式(4-1)中，R⁴¹是被氟原子取代的碳原子數為1～10的烴基。

4.一種抗蝕劑圖案形成方法，其特征在于，具有：

(1)使用權利要求1或2所述的放射線敏感性樹脂組合物在基板上形成光致抗蝕劑膜的工序，

(2)在所述光致抗蝕劑膜上配置液浸曝光用液體并介由該液浸曝光用液體對所述光致抗蝕劑膜進行液浸曝光的工序，以及

(3)將經液浸曝光的所述光致抗蝕劑膜顯影而形成抗蝕劑圖案的工序。