[發(fā)明專利]一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410591427.3
• 申請(qǐng)日: 2014-10-28
• 公開（公告）號(hào): CN104402194A
• 公開（公告）日: 2015-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 章錦明;吳建林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 遠(yuǎn)東光電股份有限公司
• 主分類號(hào): C03B5/00
• 分類號(hào): C03B5/00
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務(wù)所 32237
• 代理人: 胡建華

1.一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，包括長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的腔體(1)以及位于腔體(1)頂部的爐蓋(2)，腔體(1)和爐蓋(2)的外圍設(shè)置鋼結(jié)構(gòu)固定框架(3)，腔體(1)的長(zhǎng)邊一側(cè)設(shè)有加料口(4)，腔體(1)的兩短邊，一邊設(shè)有煙道(5)，另一邊設(shè)有玻璃出料口(6)，腔體底部為底壁(7)，底壁(7)兩側(cè)設(shè)置為池壁(13)從而形成玻璃池窯(8)，兩側(cè)的池壁(13)上方各設(shè)置胸墻(9)，胸墻(9)上部一定高度處設(shè)有一支以上的燒槍(10)，所述燒槍(10)包括天然氣進(jìn)氣口(11)和純氧進(jìn)氣口(12)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述底壁(7)下方設(shè)有保溫層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述池壁(13)外側(cè)包覆保溫層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述胸墻(9)外側(cè)包覆保溫層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述的腔體(1)具有一定的長(zhǎng)寬比范圍在1:1～4:1之間；胸墻(9)高度在500～1500mm之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述燒槍(10)為扁平外混式分級(jí)燒槍。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述兩側(cè)胸墻(9)上的燒槍(10)呈交錯(cuò)排列或者平行相對(duì)排列。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述燒槍(10)位于玻璃液面以上200～500mm的位置。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐，其特征在于，所述池壁(13)深度為500～1000mm。