[發明專利]真空射流噴嘴有效
| 申請號： | 201410588807.1 | 申請日： | 2014-10-28 |
| 公開（公告）號： | CN104373248A | 公開（公告）日： | 2015-02-25 |
| 發明（設計）人： | 康亮杰;江銘偉;鄭東曉;肖開陽;諶忠庭;趙楊;陳開瑩 | 申請（專利權）人： | 上海空間推進研究所 |
| 主分類號： | F02K9/52 | 分類號： | F02K9/52 |
| 代理公司： | 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236 | 代理人： | 郭國中 |
| 地址： | 200233 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 射流 噴嘴 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空射流噴嘴，包括噴射管道，其特征在于，噴射管道的內壁光滑，噴射管道的管嘴部分的內徑收縮；
噴射管道的內徑沿噴射方向，從管嘴部分的入口處起至管嘴部分的噴嘴唇口，由半徑R圓弧收縮至的R/2；
噴嘴唇口處銳利。
2.根據權利要求1所述的真空射流噴嘴，其特征在于，噴射管道的內壁粗糙度為1.6。
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