[發(fā)明專利]一種玻羅板及其刻線設計方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410583709.9
• 申請日: 2014-10-27
• 公開（公告）號: CN104296972A
• 公開（公告）日: 2015-01-21
• 發(fā)明（設計）人: 鄧嚴;陳海清;廖兆曙
• 申請（專利權）人: 漢口學院;鄧嚴
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 武漢東喻專利代理事務所(普通合伙) 42224
• 代理人: 紀元

1.一種玻羅板刻線設計方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)獲取光電焦距測量儀的CCD像素大小a、CCD分辨率b、準直透鏡焦距fc’、準直透鏡視場角2ω、相對精度η、以及該對刻線的量程要求下限F₁和量程要求上限F₂；

(2)根據(jù)步驟(1)中獲取的參數(shù)，計算玻羅板刻線間距最大值s_max：

s_max＝2fc’tg(ω)

(3)選取玻羅板刻線間距離s，計算該對刻線適用的焦距量程下限f₁以及焦距量程上限f₂，使得f₁≤F₁、f₂≥F₂且s≤s_max，其中焦距量程下限f₁和焦距量程上限f₂的計算方法如下：

f₁＝(0.71a×fc’)/(η×s)，

f₂＝(abfc’)/s，

其中，a為CCD像素大小，b為CCD分辨率，fc’為準直透鏡焦距，η為相對精度。

2.一種玻羅板設計方法，其特征在于，按照如權利要求1所述的玻羅板刻線設計方法，設計多對玻羅板刻線，使得多對刻線的量程覆蓋光電焦距測量儀的量程。