[發(fā)明專利]基于電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡的紅外波束控制芯片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410579907.8 | 申請日: | 2014-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN104298029A | 公開(公告)日: | 2015-01-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張新宇;雷宇;佟慶;羅俊;桑紅石;謝長生 | 申請(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/133;G02F1/29;G01J3/12 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 廖盈春 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 液晶 紅外 發(fā)散 平面 微柱鏡 波束 控制 芯片 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于紅外波束精密測量與控制技術(shù)領(lǐng)域,更具體地,涉及一種基于電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡陣列,電控構(gòu)建可調(diào)變的由陣列化微長方光孔有序排布構(gòu)成的圖形化光場的控光芯片。
背景技術(shù)
近些年來,基于表面浮雕輪廓的柱折射或柱衍射光發(fā)散微透鏡陣列,產(chǎn)生由陣列化微長方光孔有序排布構(gòu)建的特定形態(tài)光場這一技術(shù),已在多個領(lǐng)域獲得應(yīng)用。典型的如大規(guī)模集成電路光刻工藝中的陣列化微長方光孔紅外光刻源,用于MEMS和MEOMS器件中的微長方形結(jié)構(gòu)陣列制作的紅外直寫光刻源,勻質(zhì)化的微長方光孔陣基準紅外輻射源,強功率激光束基于微長方光孔分隔的圖形化構(gòu)建,紅外光電芯片非光敏區(qū)域紅外入射輻射的陣列化驅(qū)離、感光效能增強與信噪比提高等。隨著應(yīng)用領(lǐng)域的延伸和技術(shù)適用程度的擴展,構(gòu)建可電調(diào)陣列化微長方光孔其邊界亮度、清晰度、孔寬、提高孔內(nèi)漏光的消光比等的微長方光孔陣圖形化光場這一方面的需求,持續(xù)推動著該技術(shù)的發(fā)展和創(chuàng)新。
目前已獲得廣泛應(yīng)用的構(gòu)建微長方光孔陣紅外光場的典型方式包括:(一)通過表面浮雕輪廓固定的常規(guī)凹折射透鏡,得到結(jié)構(gòu)尺寸固定的微長方光孔陣光場,微長方光孔其形貌、孔寬、孔內(nèi)消光比和陣列化排布形態(tài)等均被固化;(二)通過衍射相位結(jié)構(gòu)基于波前調(diào)節(jié)得到遠場微長方光孔陣光場,所構(gòu)建的微長方光孔其圖形規(guī)則性差、邊界模糊以及孔內(nèi)消光比低,并隨衍射級次的變化顯示不同的結(jié)構(gòu)尺寸;(三)通過多波束干涉構(gòu)建的微長方光孔陣光場其微孔圖案近似線形、邊界模糊且孔內(nèi)消光比低,不具備微光孔結(jié)構(gòu)尺寸和形態(tài)的精細調(diào)變能力;(四)通過在光學(xué)系統(tǒng)中設(shè)置特殊的圖形架構(gòu)得到微長方光孔陣光場這一方式,受紅外光學(xué)系統(tǒng)更為明顯的本征衍射限約束,在微米尺度上存在微長方光孔的邊界模糊,孔內(nèi)存在較強漏光且無法調(diào)變微長方光孔結(jié)構(gòu)尺寸等問題;(五)目前在精細調(diào)變所構(gòu)造的陣列化微長方光孔其孔寬以及減少孔內(nèi)漏光等方面,需要通過兩組甚至多組級聯(lián)布置的陣列化微透鏡間的機械移動進行,響應(yīng)慢、狀態(tài)轉(zhuǎn)換時間長且慣性大,需要配置相對復(fù)雜的輔助裝置,因機械運動的本征連續(xù)性而無法執(zhí)行任意的光學(xué)狀態(tài)切入或跳變,難以靈活接入紅外光路中或與其他紅外光學(xué)光電機械結(jié)構(gòu)耦合。進入新世紀以來,發(fā)展小微型化的可調(diào)變微長方光孔陣紅外光場技術(shù),受到廣泛關(guān)注。
近些年來,基于可見光譜域的電控液晶微透鏡進行波束調(diào)控這一技術(shù)方式已取得顯著進展,為解決上述紅外譜域內(nèi)的問題提供了一條可能途徑。目前已具備的主要功能包括:(一)在陣列化液晶結(jié)構(gòu)上施加電驅(qū)控信號,光束發(fā)散可在所設(shè)定的狀態(tài)下展開、凝固或調(diào)變;(二)液晶微透鏡的光發(fā)散作用受先驗知識或光束變換結(jié)果的約束、干預(yù)或引導(dǎo);(三)平面端面的陣列化液晶微透鏡可被靈活接入光路中或與其他光學(xué)光電機械結(jié)構(gòu)耦合甚至集成;(四)液晶結(jié)構(gòu)的驅(qū)控操作可基于極低功率電壓信號進行。目前,如何借鑒可見光譜域的小微型化電控液晶微透鏡技術(shù),實現(xiàn)特殊形態(tài)紅外光場的可調(diào)變構(gòu)建,已成為繼續(xù)發(fā)展紅外波束精密測量與控制技術(shù)所面臨的難點和瓶頸問題,迫切需要新的突破。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的以上缺陷或改進需求,本發(fā)明提供了一種基于電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡的紅外波束控制芯片,能實現(xiàn)微長方光孔陣圖形化光場的電控成形與調(diào)變,易與其它紅外光學(xué)光電結(jié)構(gòu)、電子和機械裝置等匹配耦合,環(huán)境適應(yīng)性好。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種紅外波束控制芯片,其特征在于,包括電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡陣列;所述電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡陣列包括液晶材料層,依次設(shè)置在所述液晶材料層上表面的第一液晶初始取向?qū)印⒌谝浑姼綦x層、圖形化電極層、第一基片和第一紅外增透膜,以及依次設(shè)置在所述液晶材料層下表面的第二液晶初始取向?qū)印⒌诙姼綦x層、公共電極層、第二基片和第二紅外增透膜;所述公共電極層由一層勻質(zhì)導(dǎo)電膜構(gòu)成;所述圖形化電極層由其上布有m×n元陣列分布的長方孔對的一層勻質(zhì)導(dǎo)電膜構(gòu)成,所述長方孔對由兩個并排的長方形孔構(gòu)成,其中,m、n均為大于1的整數(shù);所述電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡陣列被劃分成m×n元陣列分布的單元電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡,所述單元電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡與所述長方孔對一一對應(yīng),每個長方孔對均位于對應(yīng)的單元電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡的中心,形成單元電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡的上電極,所有單元電控液晶紅外發(fā)散平面微柱鏡的下電極由所述公共電極層提供。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





