[發(fā)明專利]一種鈮酸鋰光波導(dǎo)及通過鈦擴(kuò)散和VTE制備近化學(xué)計(jì)量比鈮酸鋰光波導(dǎo)的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410579062.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-10-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105093406A | 公開(公告)日: | 2015-11-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姜城 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 派尼爾科技(天津)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B6/122 | 分類號(hào): | G02B6/122;G02B6/13 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300000 天津市濱海新*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈮酸鋰光 波導(dǎo) 通過 擴(kuò)散 vte 制備 化學(xué) 計(jì)量 方法 | ||
1.一種鈮酸鋰光波導(dǎo)及通過鈦擴(kuò)散和VTE制備近化學(xué)計(jì)量比鈮酸鋰光波導(dǎo)的方法,其特征在于:包括基底以及位于所述基底上的波導(dǎo)層,所述基底采用鈮酸鋰晶體,所述波導(dǎo)層位于所述鈮酸鋰晶體的+z面,條波到的方向是鈮酸鋰晶體的y方向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈮酸鋰光波導(dǎo),在所述基底上制備波導(dǎo)層采用的是光刻工藝。
3.一種通過鈦擴(kuò)散和VTE制備近化學(xué)計(jì)量比鈮酸鋰光波導(dǎo)的方法,其特征在于:包括以下步驟:
步驟一,樣品準(zhǔn)備,選用是光學(xué)級(jí)Z切0.5mm厚同成份鈮酸鋰晶體為初始材料,使用精密切割機(jī)將鈮酸鋰晶體切割成樣品;
步驟二,光刻,第一步,將清洗干凈的樣品放在加熱板上烘烤10min,溫度為85℃,然后,進(jìn)行光刻膠的涂覆,使用勻膠機(jī)在樣品上涂覆一層SPR6112B型光刻膠進(jìn)行勻膠,設(shè)定勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速為3000r/min,時(shí)間為1min,下面,在85℃下,把旋涂完光刻膠的樣品烘烤10min,第二步,曝光,將樣品和掩膜板放入光刻機(jī)的操作臺(tái)上,調(diào)整好位置,曝光40s,其中所選用的掩膜板為制作有7μm的條形波導(dǎo)圖樣,第三步,顯影,使用質(zhì)量百分比為0.5%的氫氧化鈉溶液,顯影時(shí)間為16s,在曝光部分光刻膠溶解后,迅速使用純凈的去離子水清洗干凈,接著使用高純高壓氮?dú)鈽寣悠反蹈?,第四步,將進(jìn)行完顯影工作的晶片,放在加熱板上烘烤10min,溫度為85℃;
步驟三,鍍鈦,把樣品放入直流濺射機(jī)中進(jìn)行鈦金屬薄膜的濺射,濺射時(shí)充入氬氣,使壓強(qiáng)維持在4Pa左右,在樣品表面形成一層鈦膜;
步驟四,剝離,使用丙酮對(duì)鍍完鈦金屬薄膜的樣品進(jìn)行剝離,利用超聲波清洗機(jī)洗掉鍍在光刻膠上的鈦,剝離完成后,使用酒精和高純凈去離子水對(duì)晶片清洗,清洗完成后,使用高純高壓氮?dú)鈽寣悠反蹈桑瑒冸x完成后,使用臺(tái)階儀測得鈦金屬膜的厚度為90nm;
步驟五,鈦金屬膜預(yù)擴(kuò)散,將樣品放入高溫爐中,進(jìn)行鈦金屬薄膜的預(yù)擴(kuò)散,時(shí)間和溫度分別為2h,1060℃,這樣能保證鈦離子進(jìn)入鈮酸鋰晶體內(nèi)部;
步驟六,富鋰VTE處理,使用富鋰VTE技術(shù)處理完成鈦金屬薄膜預(yù)擴(kuò)散的樣品,將樣品放入由摩爾分?jǐn)?shù)比為68mol%:32mol%的Li2CO3和Nb2O5混合粉末燒結(jié)成的富鋰坩堝中,樣品下面加一層鉑金墊片,將坩堝用富鋰粉末密封后,放入箱式高溫節(jié)能爐中,箱式高溫爐的運(yùn)行過程由程序自動(dòng)控制,對(duì)樣品在1100℃下,處理30h;
步驟七,光波導(dǎo)端面拋光,先后用20、7、1.5μm的拋光粉以及拋光液對(duì)光波導(dǎo)的端面進(jìn)行拋光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的通過鈦擴(kuò)散和VTE制備近化學(xué)計(jì)量比鈮酸鋰光波導(dǎo)的方法,其特征在于:,所述箱式高溫爐中溫度控制分為四個(gè)階段:一低溫快速升溫過程,在50min內(nèi),由25oC升至400oC;二高溫升溫過程,400oC加熱到1100oC,用時(shí)140min;三是保溫階段,在1100oC下維持30h;四降溫階段,由1100oC降至室溫。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于派尼爾科技(天津)有限公司,未經(jīng)派尼爾科技(天津)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410579062.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





