[發(fā)明專利]一種低輻射鍍膜玻璃在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410577343.4 | 申請日： | 2014-10-27 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105619963A | 公開（公告）日： | 2016-06-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 蒼利民;郭松昌;萬志剛;丁萬勇;蔣振偉 | 申請（專利權(quán)）人： | 河南安彩高科股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B32B17/06 | 分類號(hào)： | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/23;C03C17/34 |
| 代理公司： | 鄭州立格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 41126 | 代理人： | 王暉 |
| 地址： | 455000*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種低輻射鍍膜玻璃，包括覆蓋在玻璃上的鍍膜，其特征在于：所述的鍍膜包括光波長轉(zhuǎn)換材料層，所述的光波長轉(zhuǎn)換材料層為鉍銪共摻雜的氧化釓薄膜或/和銪鐿共摻雜的氧化釔薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述的光波長轉(zhuǎn)換材料層上設(shè)置有摻硼氧化鋅層，在摻硼氧化鋅上設(shè)置有摻氟氧化錫層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述的鉍銪共摻雜的氧化釓薄膜厚度為5-50nm，所述的銪鐿共摻雜的氧化釔薄膜厚度為5-50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：在玻璃表面依次設(shè)置有光波長轉(zhuǎn)換材料層、摻硼氧化鋅層、摻氟氧化錫層，所述的光波長轉(zhuǎn)換材料層為鉍銪共摻雜的氧化釓薄膜或/和銪鐿共摻雜的氧化釔薄膜，所述的光波長轉(zhuǎn)換材料層的厚度小于100nm，所述的摻硼氧化鋅層、摻氟氧化錫層的厚度均在100-300nm之間。
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