[發明專利]一種可變反射率柔性薄膜器件及其制備方法

無效

• 申請號: 201410577317.1
• 申請日: 2014-10-24
• 公開（公告）號: CN104459847A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 左華平;馮煜東;王虎;王志民;楊淼;許旻;吳春華;王潔冰;趙印中;李林
• 申請（專利權）人: 蘭州空間技術物理研究所
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;B32B27/36;B32B27/34;B32B37/02
• 代理公司: 北京理工大學專利中心 11120
• 代理人: 付雷杰;楊志兵

1.一種可變反射率柔性薄膜器件，其特征在于，由柔性薄膜基底和在柔性薄膜基底上依次沉積的高反射率導電層、電致變色層、離子導電層、離子儲存層和透明導電層組成；其中，所述高反射率導電層的厚度為200nm～500nm，其反射率大于90％；所述電致變色層的厚度為300nm～600nm，由氧化鎢制成；所述離子導電層的厚度為200nm～400nm，由鉭酸鋰或鈮酸鋰制成；所述離子儲存層的厚度為150nm～300nm，由氧化鎳制成；所述透明導電層的厚度為50nm～90nm，由摻錫氧化銦或摻鋁氧化鋅制成。

2.如權利要求1所述的可變反射率柔性薄膜器件，其特征在于，所述反射率導電層由鋁或銀制成。

3.如權利要求1所述的可變反射率柔性薄膜器件，其特征在于，所述柔性薄膜基片的材料為聚酰亞胺或聚酯，厚度小于100μm。

4.一種制備如權利要求1所述可變反射率柔性薄膜器件的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1，將柔性薄膜基底依次在丙酮、無水乙醇中超聲清洗，然后烘干，放入鍍膜機真空室之后抽真空，然后用離子源轟擊進行離子清洗和表面活化；

步驟2，采用直流磁控濺射技術在柔性薄膜基底上鍍制高反射率導電層；

步驟3，采用直流磁控濺射技術在高反射率導電層上制備電致變色層；

步驟4，采用射頻磁控濺射技術在電致變色層上制備離子導電層；

步驟5，采用直流磁控濺射技術在離子導電層上制備離子儲存層；

步驟6，采用射頻磁控濺射技術在離子儲存層上制備透明導電層。