[發明專利]一種金屬件及其制備方法有效
| 申請號： | 201410576899.1 | 申請日： | 2014-10-24 |
| 公開（公告）號： | CN105586575B | 公開（公告）日： | 2017-07-21 |
| 發明（設計）人： | 范偉華 | 申請（專利權）人： | 深圳市森泰金屬技術有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/16;B32B15/01 |
| 代理公司： | 廣州粵高專利商標代理有限公司44102 | 代理人： | 鄧義華,廖苑濱 |
| 地址： | 518117 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 金屬件 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.金屬件的制備方法，其特征在于，包括：
S1、將金屬基底固定于磁控濺射離子鍍膜機的鍍膜室內，其中，靶材為由鉻和硅組成的復合靶；所述復合靶中，鉻和硅的含量比為1:1；
S2、先將鍍膜室抽至本底真空度為4-6×103Pa，然后通入氬氣，以氬氣為工作氣體，進行磁控濺射，在金屬基底表面形成由硅和鉻組成的厚度為2.5-5μm的鍍層；所述鍍層中，硅的含量為3-5wt％；
其中所述金屬基底為不銹鋼；所述鍍層的色度系坐標 LAB值為：L值為78.00-80.00；A值為0.00-1.00；B值為3.00-5.00。
2.根據權利要求1所述的金屬件的制備方法，其特征在于，在真空度為0.12-1.2Pa的條件下進行磁控濺射。
3.根據權利要求1所述的金屬件的制備方法，其特征在于，所述步驟S1之前還包括對金屬基底進行高溫除蠟、除油處理。
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