[發明專利]液晶顯示裝置及其制造方法有效
| 申請號: | 201410575596.8 | 申請日: | 2014-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN104570525B | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發明(設計)人: | 金暻煜;辛基澤;李喜元 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 顧晉偉;董文國 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 像素區 像素電極 數據線 四角形 柵極線 液晶顯示裝置 薄膜晶體管 柵極線交叉 電容偏差 高透光率 公共電極 指狀圖案 基板 減小 像素 制造 視角 | ||
本發明實施方案公開了一種LCD裝置及其制造方法,在視角和高透光率上沒有任何改變的情況下減小了像素之間的電容偏差。該LCD裝置包括:在基板上沿第一方向形成的多個柵極線;沿第二方向形成為與所述多個柵極線交叉的多個數據線;形成在由所述多個柵極線和所述多個數據線限定的多個像素區中的每一個中的薄膜晶體管(TFT);在所述多個像素區中的每一個中以四角形形成的像素電極;以及形成在像素電極上并且構造為包括多個指狀圖案的公共電極。所述多個像素區中的每一個形成為四角形。
相關申請的交叉引用
本申請要求2013年10月25日提交的韓國專利申請第10-2013-0128040號的優先權,通過引用將其如在本文中闡述的那樣并入本文。
技術領域
本發明涉及液晶顯示(LCD)裝置,并且更具體地,涉及LCD裝置及其制造方法,其在視角和高透光率上沒有任何改變的情況下減小了像素之間的電容偏差。
背景技術
隨著各種便攜式電子裝置(例如移動通信終端、智能手機、平板電腦、筆記本電腦等)的發展,對可應用于便攜式電子裝置的平板顯示(FPD)裝置的需求正在增加。
已經開發了液晶顯示(LCD)裝置、等離子體顯示面板(PDP)、場發射顯示(FED)裝置、有機發光顯示裝置等作為FPD裝置。
在這樣的FPD裝置中,LCD裝置在應用領域不斷地擴展,這是因為LCD裝置由于制造技術的進步而變得容易制造并且實現了驅動器的可操控性、低功耗、高質量圖像和大屏幕。
圖1為示出相關技術LCD裝置的像素結構的圖。圖1示出了形成在液晶面板中的多個像素中的一些像素,并且示出了面內開關(IPS)模式的薄膜晶體管(TFT)陣列基板(下基板)的像素結構。在圖1中,沒有示出彩色濾光陣列基板(上基板)、背光單元和驅動電路單元。
參照圖1,在液晶面板的TFT陣列基板上形成有多個像素,并且所述多個像素通過形成為交叉的多個柵極線10和多個數據線20限定。
在通過柵極線10與數據線20之間的交叉而限定的多個區域中的每一個中形成有TFT 30。
TFT 30形成為底柵極型,并且包括:柵電極G,柵電極G的一個區域從柵極線10延伸;從數據線20延伸的源電極S;由半導體材料形成的有源層;以及漏電極D。
在多個像素中的每一個中形成有基于從外部輸入的圖像數據供給數據電壓的像素電極40,并且在像素電極40上形成有公共電極50。
TFT 30的漏電極D通過接觸孔連接至像素電極40。為了防止各像素的開口率的損失,接觸孔形成在存儲電容器(Cst)區中。公共電極50被圖案化為在各像素中為指狀并且以公共的方式形成在所有像素中。
公共電極50的指狀圖案形成為以一定角度傾斜,并且像素電極40形成為以與指狀圖案的角度相同的角度傾斜。
圖1所示的相關技術LCD裝置的像素以2-域結構的形成,在該2-域結構中上像素和下像素以不同的形式形成。因此,與1-域結構相比,2-域結構提高了視角并解決了色偏的缺點。
然而,數據線交替地形成為以一定角度傾斜。因此,各像素的輪廓形成為梯形,并且沿水平方向相鄰的兩個像素以連接的形式形成。
如上所述,在像素形成為梯形的情況下,在制造過程中,多個金屬層可能形成為扭曲,而沒有彼此正常交疊。
因此,金屬層彼此交疊的區域在各像素中不同,因而,像素的電容不同。為此,出現沿高度方向和寬度方向的暗線以及出現閃爍,引起圖像質量劣化。
發明內容
因此,本發明涉及提供一種LCD裝置及其制造方法,其基本上消除了由于相關技術的限制和缺點而引起的一個或更多個問題。
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