[發明專利]正膠顯影液制備方法有效
| 申請號: | 201410574835.8 | 申請日: | 2014-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN104330958B | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發明(設計)人: | 朱祥龍 | 申請(專利權)人: | 江陰市化學試劑廠有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/32 | 分類號: | G03F7/32 |
| 代理公司: | 江陰市揚子專利代理事務所(普通合伙) 32309 | 代理人: | 隋玲玲 |
| 地址: | 214421 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影液 制備 方法 | ||
本發明涉及一種正膠顯影液制備方法,其特征在于,所述方法是將四甲基氫氧化銨輸送至配置罐中,向配置罐通入純水,對四甲基氫氧化銨進行稀釋,在配置罐中按照2.5~3:0.5~1.2:0.5~1.2的質量比例通入聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀,所述聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀的通入總量為0.1%~0.3%,使得最終四甲基氫氧化銨的濃度為2.37%~2.39%,經過濾得成品。本發明正膠顯影液制備方法生產出的正膠顯影液具有低表面張力,可避免與二氧化碳反應,產品表面無斑點。
技術領域
本發明涉及一種正膠顯影液制備方法。
背景技術
TMAH,即四甲基氫氧化銨可以作為光刻制程中的正膠顯影液。對于大尺寸的產品,需要先在堿洗槽中使用正膠顯影液對產品進行顯影,然后將產品取出,再用清水沖洗,產品取出后一般希望正膠顯影液盡可能少量的附著于產品表面便于后續的清水沖洗,因此需要正膠顯影液具有較低的表面張力。在產品取出堿洗槽后殘余在產品上的正膠顯影液后會暴露在空氣中,殘余在產品上的TMAH會與空氣中的二氧化碳發生反應,在產品上形成斑點,后經過清水沖洗也難以去除,影響產品質量。因此尋求一種生產出的正膠顯影液具有低表面張力,避免與二氧化碳反應的正膠顯影液制備方法尤為重要。
發明內容
本發明的目的在于克服上述不足,提供一種生產出的正膠顯影液具有低表面張力,避免與二氧化碳反應的正膠顯影液制備方法。
本發明的目的是這樣實現的:
一種正膠顯影液制備方法,所述方法是將四甲基氫氧化銨輸送至配置罐中,向配置罐通入純水,對四甲基氫氧化銨進行稀釋,在配置罐中按照2.5~3:0.5~1.2: 0.5~1.2的質量比例通入聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀,所述聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀的通入總量為0.1%~ 0.3%,使得最終四甲基氫氧化銨的濃度為2.37%~2.39%,經過濾得成品。
進一步的,在通入聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀前,將四甲基氫氧化銨稀釋至2.4%。
進一步的,制備環境萬級,罐裝區百級。
進一步的,通入的聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀的質量比為3:1:1。
優選方案,將四甲基氫氧化銨輸送至配置罐中,向配置罐通入純水,對四甲基氫氧化銨進行稀釋至2.4%,在配置罐中按照質量比3:1:1的比例通入聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀,最終四甲基氫氧化銨的濃度為2.38%,經過濾得成品。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:
本發明正膠顯影液制備方法,通入的聚乙二醇為表面活性劑,可以使得正膠顯影液成品的表面張力由傳統的75~76達因降低至48~52達因,通入的氫氧化鉀為添加劑,使得正膠顯影液成品在空氣中先由氫氧化鉀于二氧化碳發生反應,從而避免四甲基氫氧化銨與二氧化碳接觸發生反應,避免形成斑點。氨氣通入其中,形成氨水,置于空氣中會產生冒煙現象,進一步阻隔四甲基氫氧化銨與空氣接觸。
具體實施方式
實施例1
一種正膠顯影液制備方法,將四甲基氫氧化銨輸送至配置罐中,向配置罐通入純水,對高純四甲基氫氧化銨(濃度25%)進行稀釋,稀釋至2.4%,在配置罐中按照3:1:1的質量比例通入聚乙二醇、水洗后的氨氣以及氫氧化鉀,使得最終四甲基氫氧化銨的濃度為2.38%,經過濾得成品。制備環境萬級、罐裝區百級。
制得的正膠顯影液表面張力為49達因,使用過程中,浸潤性好,使用后,產品表面無斑點,顯影效果好。
實施例2
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