[發(fā)明專利]放射治療系統(tǒng)中的輔助裝置/附件的使用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410574608.5
• 申請(qǐng)日: 2014-10-24
• 公開（公告）號(hào): CN104548386B
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C.C.克諾克斯;N.溫切斯特;D.A.羅伯茨;J.斯蒂夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 伊利克塔股份有限公司
• 主分類號(hào): A61N5/10
• 分類號(hào): A61N5/10;A61B5/055
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 董均華;傅永霄

1.一種用于與放射治療設(shè)備一起使用的系統(tǒng)，所述放射治療設(shè)備包括治療輻射源，所述治療輻射源適于將輻射束傳送至包含至少一個(gè)對(duì)象的成像體積中，所述系統(tǒng)包括：

掃描儀，其用于產(chǎn)生所述成像體積內(nèi)的所述至少一個(gè)對(duì)象的圖像；

治療計(jì)劃系統(tǒng)，其用于控制所述源以按照用于治療患者的預(yù)定治療計(jì)劃并按照來(lái)自所述成像體積的所述掃描儀的所述對(duì)象或每個(gè)對(duì)象的圖像來(lái)傳送輻射束；以及

在所述成像體積內(nèi)和/或附近的一個(gè)或多個(gè)裝置，所述裝置對(duì)所述成像體積內(nèi)的輻射束有影響；

其中，所述裝置或每個(gè)裝置包括適于對(duì)于所述掃描儀可見的至少一個(gè)標(biāo)記物和適于對(duì)于MR掃描儀可見的至少一個(gè)MR標(biāo)記物，并且其中，所述系統(tǒng)還包括包含數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫(kù)，所述數(shù)據(jù)包括與裝置相關(guān)聯(lián)的所述標(biāo)記物和所述裝置的至少幾何及密度特性；

其中，所述治療計(jì)劃系統(tǒng)能夠由所述至少一個(gè)MR標(biāo)記物和/或所述至少一個(gè)MR標(biāo)記物的排列/取向從數(shù)據(jù)庫(kù)中的一系列不同的裝置中識(shí)別所述裝置，并且確定所述裝置相對(duì)于在施加放射治療的MR掃描儀內(nèi)的成像體積內(nèi)的位置和取向；

所述治療計(jì)劃系統(tǒng)接著利用所述裝置的位置/取向和所述裝置在數(shù)據(jù)庫(kù)中的幾何及密度特性來(lái)計(jì)算將由所述裝置的存在造成的對(duì)輻射束的影響，并且調(diào)整所述預(yù)定治療計(jì)劃，以便確保輻射是按照預(yù)定治療計(jì)劃被傳送到患者。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述放射治療設(shè)備為MR引導(dǎo)的放射治療系統(tǒng)，并且所述掃描儀為MR掃描儀。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，對(duì)于所述掃描儀可見的所述標(biāo)記物或每個(gè)標(biāo)記物也對(duì)于MR掃描儀可見。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)，包括多于一個(gè)裝置，其中至少一個(gè)裝置包括多個(gè)MR標(biāo)記物。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)，其中，所述源為線性加速器。

6.一種用于與根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)一起使用的裝置，其中，多個(gè)MR標(biāo)記物在空間上設(shè)置在所述裝置的表面之內(nèi)和/或所述裝置的表面周圍。

7.一種用于與根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)一起使用的裝置，其中，所述裝置載有可見的識(shí)別和/或定位標(biāo)記。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述MR標(biāo)記物或每個(gè)MR標(biāo)記物相對(duì)于所述可見的識(shí)別/定位標(biāo)記中的一個(gè)或多個(gè)而定位于所述裝置中或所述裝置上。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中，所述數(shù)據(jù)庫(kù)內(nèi)的所述數(shù)據(jù)包括至少一個(gè)MR標(biāo)記物相對(duì)于至少一個(gè)可見的識(shí)別標(biāo)記的位置。

10.一種用于與根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)一起使用的裝置，包括至少兩個(gè)MR標(biāo)記物。

11.一種用于與根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng)一起使用的存儲(chǔ)裝置，所述存儲(chǔ)裝置包括數(shù)據(jù)庫(kù)，所述放射治療設(shè)備為MR引導(dǎo)的放射治療系統(tǒng)，所述MR引導(dǎo)的放射治療系統(tǒng)包括MR掃描儀以及在所述MR掃描儀內(nèi)的至少一個(gè)裝置，對(duì)于所述裝置或每個(gè)裝置，所述數(shù)據(jù)庫(kù)包括：通過(guò)被包括于所述裝置中或所述裝置上并且對(duì)于所述MR掃描儀可見的一個(gè)或多個(gè)MR標(biāo)記物來(lái)識(shí)別所述裝置的數(shù)據(jù)、以及所述裝置的至少幾何和密度特性。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的存儲(chǔ)裝置，其中所述數(shù)據(jù)庫(kù)包含用于一系列不同裝置的數(shù)據(jù)。

13.根據(jù)權(quán)利要求11或12所述的存儲(chǔ)裝置，其中，所述數(shù)據(jù)庫(kù)包括根據(jù)所述MR標(biāo)記物的性質(zhì)和/或位置而與裝置的取向關(guān)聯(lián)的數(shù)據(jù)。

14.一種填充根據(jù)權(quán)利要求11-13中的任一項(xiàng)所述的存儲(chǔ)裝置的數(shù)據(jù)庫(kù)的方法，包括：掃描包括一個(gè)或多個(gè)MR標(biāo)記物的裝置以確定其幾何和/或密度特性、將所述幾何和/或密度特性與所述MR標(biāo)記物的性質(zhì)和/或位置關(guān)聯(lián)、以及將這種數(shù)據(jù)包括在所述數(shù)據(jù)庫(kù)中。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括將多個(gè)MR標(biāo)記物以預(yù)定的空間關(guān)系設(shè)置在所述裝置的表面之內(nèi)和/或所述裝置的表面周圍的初步步驟。