[發(fā)明專利]干熄焦?fàn)t預(yù)存室料位的控制方法及控制裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410573132.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-10-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104479696A | 公開(公告)日: | 2015-04-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳曉峰;亓愛峰;李濤;徐志明;王振中;王彩琴;武中華;彭波;王亮;劉吉星;韓笑;李鳳巧;姜超;王心量;林同剛;李朝陽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 萊蕪鋼鐵集團(tuán)電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | C10B39/02 | 分類號(hào): | C10B39/02;C10B41/00 |
| 代理公司: | 北京弘權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 逯長(zhǎng)明;許偉群 |
| 地址: | 271104 山*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 焦?fàn)t 預(yù)存室料位 控制 方法 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電氣領(lǐng)域,特別涉及一種干熄焦?fàn)t預(yù)存室料位的控制方法及控制裝置。
背景技術(shù)
焦炭在工業(yè)領(lǐng)域的使用非常廣泛。焦炭生產(chǎn)的原料是煤,煤在炭化室煉成焦炭后,從炭化室排出。高溫的焦炭也稱為紅焦,紅焦從炭化室排出時(shí)溫度約為1000℃。溫度過高的紅焦不能直接送往高爐煉鐵,此外,為了避免焦炭燃燒并使焦炭適于運(yùn)輸和貯存,必須使紅焦降溫。
干熄焦方法是指采用惰性氣體將紅焦降溫冷卻的一種方法,干熄焦的過程在干熄焦?fàn)t中進(jìn)行。干熄焦?fàn)t包括裝焦裝置、預(yù)存室、冷卻室、循環(huán)管道及鍋爐。預(yù)存室位于冷卻室上部,與冷卻室內(nèi)部連通。紅焦由預(yù)存室進(jìn)入冷卻室,惰性氣體從循環(huán)管道進(jìn)入冷卻室冷卻紅焦,冷卻后的紅焦由冷卻室底部排出,吸熱后的惰性氣體經(jīng)循環(huán)管道進(jìn)入鍋爐,使鍋爐產(chǎn)生熱蒸汽。在干熄焦方法中,預(yù)存室中料位,即預(yù)存室中的焦炭的預(yù)存量是影響干熄焦正常生產(chǎn)的關(guān)鍵因素。預(yù)存室中焦炭過少,惰性氣體受到的阻力小,壓力小,吸熱后溫度較低,效率低;預(yù)存室中焦炭過多,惰性氣體受到的阻力大、吸熱后溫度過高、壓力大,容易發(fā)生爆炸或泄露,此外,焦炭過多也增加了溢出的風(fēng)險(xiǎn)。控制預(yù)存室中料位的方法是使裝焦量與排焦量相適應(yīng),以使預(yù)存室的料位保持在一定范圍內(nèi)。裝焦指的裝焦裝置將焦炭裝入預(yù)存室中,排焦指的是預(yù)存室將焦炭推入冷卻室,冷卻室將焦炭推出。
現(xiàn)有技術(shù)中,控制預(yù)存室中料位的方法有兩種,一種是在預(yù)存室頂部安裝攝像裝置,通過人為觀察來判斷預(yù)存室中焦炭的預(yù)存量,其弊端是如果攝像裝置出現(xiàn)故障就無法獲取預(yù)存室中的料位情況,極易發(fā)生事故,同時(shí),人工觀察也容易出現(xiàn)人為失誤。另一種方法是在預(yù)存室中安裝γ射線料位計(jì)。γ射線料位計(jì)的在預(yù)存室料位下降或超出檢測(cè)平面時(shí)可以告警。其弊端是由于成本以及安裝空間的限制,預(yù)存室中可以安裝的料位計(jì)的數(shù)量很少,通常為一個(gè)或兩個(gè),因此對(duì)預(yù)存室中料位的檢測(cè)不夠精確??梢姡F(xiàn)有技術(shù)中還沒有成本較低、精確度較高的干熄焦?fàn)t預(yù)存室料位的控制方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例中提供了一種干熄焦?fàn)t預(yù)存室料位的控制方法,能控制干熄焦?fàn)t預(yù)存室料位在預(yù)設(shè)范圍內(nèi),且成本較低、精確度較高。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明實(shí)施例公開了如下技術(shù)方案:
一方面,提供了一種干熄焦?fàn)t預(yù)存室料位的控制方法,所述方法包括:
獲取干熄爐預(yù)存室參數(shù),所述預(yù)存室參數(shù)包括:上一個(gè)周期的預(yù)存室料位估算值,本周期的裝焦量,本周期的排焦量;
根據(jù)所述干熄焦?fàn)t預(yù)存室參數(shù)以及料位預(yù)設(shè)模型獲取本周期的預(yù)存室料位估算值;
根據(jù)所述本周期的預(yù)存室料位估算值控制之后周期的裝焦量和排焦量,以使所述預(yù)存室料位的實(shí)際值在預(yù)設(shè)范圍內(nèi);
其中,所述根據(jù)所述本周期的預(yù)存室料位估算值控制之后周期的裝焦量和排焦量,包括:
若所述本周期的預(yù)存室料位估算值等于料位下限,禁止下一個(gè)周期排焦;
若所述本周期的預(yù)存室料位估算值大于或等于第一料位上限,且小于第二料位上限,生成禁止裝焦命令,以使再下一個(gè)周期根據(jù)所述禁止裝焦命令禁止裝焦;
若所述本周期預(yù)存室料位估算值大于或等于第二料位上限,禁止下一個(gè)周期裝焦。
可選的,所述根據(jù)料尾預(yù)設(shè)模型獲取預(yù)存室料位估算值之前,所述方法還包括:
獲取料位預(yù)設(shè)模型;
所述獲取的料位預(yù)設(shè)模型為:
Qi=Qi-1+Ai-Bi+α,i=1,2,3……,
其中,Qi-1為第i-1個(gè)周期的預(yù)存室料位估算值,Ai為第i個(gè)周期內(nèi)的裝焦量,Bi為第i個(gè)循環(huán)周期內(nèi)的排焦量,α為修正值;
在生成強(qiáng)制校正信號(hào)的周期內(nèi)α=K-Qi-1,在其他周期內(nèi),α=0,其中,K為強(qiáng)制校正值。
可選的,所述方法還包括:
在預(yù)存室料位實(shí)際值從大于等于所述強(qiáng)制校正值變?yōu)樾∮谒鰪?qiáng)制校正值時(shí),生成強(qiáng)制校正信號(hào)。
可選的,所述方法還包括:
在γ射線料位計(jì)從ON狀態(tài)轉(zhuǎn)換為OFF狀態(tài)時(shí),生成強(qiáng)制校正信號(hào)。
可選的,所述方法還包括:修正生成所述強(qiáng)制校正信號(hào)的周期內(nèi)的排出量,以根據(jù)修正后的排出量控制下一個(gè)周期內(nèi)的排出量。
可選的,所述修正后的排出量為:
Bi+1=Bi×Δi,
i=1,2,3……,
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于萊蕪鋼鐵集團(tuán)電子有限公司,未經(jīng)萊蕪鋼鐵集團(tuán)電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410573132.3/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





