[發明專利]PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法

有效

• 申請號: 201410572818.0
• 申請日: 2014-10-23
• 公開（公告）號: CN104445058A
• 公開（公告）日: 2015-03-25
• 發明（設計）人: 許利蘋;魏璐;曹艷華;陳艷霞;宋永楊;王書琪;張學記;王樹濤
• 申請（專利權）人: 北京科技大學
• 主分類號: B82B3/00
• 分類號: B82B3/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京市廣友專利事務所有限責任公司 11237
• 代理人: 張仲波

1.一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，具體步驟包括：1)合成親水PS球，2)配制PS懸浮液，3)制備光刻陣列硅柱模板，4)親水處理陣列硅柱和硅片基底，5)組裝PS小球與納米金復合系統。

2.根據權利要求1所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟1)所述親水PS球的合成是：

過柱子純化的PS通氮氣30min，后加入引發劑過硫酸銨70℃下反應24h，即可得到大小形狀均一的PS小球。

3.根據權利要求1所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟2)所述PS懸浮液的配置是：

以十二烷基硫酸鈉配置成濃度為0.5mg/mL—10mg/mL的表面活性劑溶液，然后將PS分散于活性劑溶液中，制備成懸浮液。

4.根據權利要求1所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟3)所述光刻陣列硅柱模板的制備是：

通過圖像復制和化學腐蝕，在硅片上深度刻蝕出所需要的陣列硅柱。

5.根據權利要求1所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟4)所述硅片基底的處理是：

將得到的硅片切成1cm×1cm的片材，并依次經過丙酮、乙醇和超純水的超聲清洗，然后將硅片置于大燒杯中，加入體積比為1:3的雙氧水和濃硫酸，浸泡1h，最后取出硅片用清水反復沖洗，吹干待用。

6.根據權利要求1所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟4)所述陣列硅柱和硅片基底的親水處理是：

將陣列硅柱和硅片基底放入等離子體表面處理儀，設置好參數，通過高速氧的等離子體處理將其表面親水化。

7.根據權利要求1所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟5)所述PS小球與納米金復合系統的組裝方式是：

將10μL的PS懸浮液滴加在硅片基底上，然后覆蓋陣列硅柱模板，組成“三明治”結構，在30℃溫度下進行蒸發組裝形成陣列，然后通過物理鍍金技術將納米金覆蓋在PS小球上構成微納復合系統。

8.根據權利要求1或2所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟1)所述親水PS球的合成是用乳液聚合法即純化后苯乙烯加入氯化鈉和水并通氮氣30min，后加入引發劑過硫酸銨合成，氯化鈉的加入量是苯乙烯單體總量2％—5％，過硫酸銨的加入量為苯乙烯單體總量的0.1％—2％。

9.根據權利要求1或4所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟4)所述的制備陣列硅柱需要先將光刻膠均勻涂覆在潔凈的硅片上，利用制備好的光掩模板進行曝光，通過顯影液得到與掩模板相同的圖案結構，再進行深度刻蝕得到所需的陣列硅柱結構。

10.根據權利要求1或7所述一種PS小球和金納米顆粒的微納復合系統的有序組裝方法，其特征在于：步驟5)所述的組裝PS小球與納米金復合系統是得到親水表面后，要在5min之內完成陣列硅柱、PS懸浮液、硅片基底三明治夾層的構建。