[發(fā)明專利]一種快速降溫設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410570722.0
• 申請日: 2014-10-23
• 公開（公告）號: CN105587676A
• 公開（公告）日: 2016-05-18
• 發(fā)明（設計）人: 胡志有
• 申請（專利權）人: 天津敏寧電子有限公司
• 主分類號: F04D25/16
• 分類號: F04D25/16;F04D29/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發(fā)明涉及冷卻設備領域，尤其是涉及一種快速降溫設備。

背景技術

線路板生產工藝中，其中包括熱壓整平和絲印字符兩個步驟，在熱壓整 平工藝是利用熱風將印制電路板表面及多余焊料去掉，剩余焊料均勻覆在焊 盤上及無阻焊料線機表面封裝點上；從這步工藝出來的產品，溫度很高，不 能立即進入下一步絲印字符，需要進一步降溫，熱壓整平工藝中的冷卻后溫 度，還較高，等待冷卻后，進行絲印字符，浪費很多時間，降低了工作效率 差，為了進一步提高工作效率，需要盡快將線路板降溫，進行絲印字符工藝。

發(fā)明內容

本發(fā)明要解決的問題是提供一種快速降溫設備。

為解決上述技術問題，本發(fā)明采用的技術方案是：一種快速降溫設備， 包括主風扇和輔風扇，其特征在于：所述的主風扇下設置有支撐柱，支撐柱 上設置有固定裝置，所述的固定裝置包括左固定裝置和右固定裝置，左固定 裝置包括液壓支撐柱，液壓支撐柱上的支撐桿上設置有內孔；內孔內設置有 彈簧，外套有支撐冒，彈簧一端固定在內孔底部，另一端設置在支撐冒內， 支撐冒頂端是傾斜面；輔風扇下端設置有液壓柱，液壓柱設置在支撐架上。

進一步，所述的支撐桿上設置有滑道。

進一步，所述的支撐冒下端設置有固定卡臺，固定卡臺安裝在滑道內。

進一步，所述的左固定裝置與右固定裝置相同，間隔120°設置在支撐 柱上。

本發(fā)明具有的優(yōu)點和有益效果是：在冷卻設置中的主風扇上增加了固定 裝置，能夠固定住主風扇扇葉的方向，這樣輔風扇，上升的時候，不會碰到 主風扇的扇葉，也能增加輔風扇扇葉的直徑，增加輔風扇的降溫能力，能夠 加快冷卻效果，進一步減少整個工藝的時間，提高工作效率，提高經濟效益。

附圖說明

圖1是本發(fā)明快速降溫設備立體圖；

圖2是圖1的仰視圖；

圖3是主風扇立體圖；

圖4是左固定裝置縱截面示意圖。

圖中：1、支撐柱11、主風扇2、液壓柱

21、輔風扇3、固定裝置4、支撐架

5、左固定裝置51、右固定裝置6、液壓支撐柱

61、支撐桿62、彈簧63、滑道

64、內孔7、支撐冒71、傾斜面

72、固定卡臺

具體實施方式

下面結合附圖對本發(fā)明的具體實施例做詳細說明。

如圖1、圖2、圖3、圖4所示，一種快速降溫設備，包括主風扇11和 輔風扇21，主風扇11下設置有支撐柱1，支撐柱1上設置有固定裝置3，固 定裝置3包括左固定裝置5和右固定裝置51，左固定裝置5包括液壓支撐柱 6，液壓支撐柱6上的支撐桿61上設置有內孔64；內孔64內設置有彈簧62， 外套有支撐冒7，彈簧62一端固定在內孔64底部，另一端設置在支撐冒7 內，支撐冒7頂端是傾斜面71；輔風扇21下端設置有液壓柱2，液壓柱2 設置在支撐架4上。

支撐桿61上設置有滑道63；支撐冒7下端設置有固定卡臺72，固定卡 臺72安裝在滑道63內；左固定裝置5與右固定裝置51相同，間隔120°設 置在支撐柱1上。

新型冷卻設備上的主風扇11的支撐柱1上設置的兩個間隔120°的左固 定裝置5和右固定裝置51，當主風扇11停止轉動以后，控制液壓支撐柱6 升起，支撐桿61上的支撐冒7先接觸到風扇，支撐冒7頂端是斜面，與風 扇傾斜方向相反，再接觸風扇葉后，使風扇轉動，將左固定裝置5和右固定 裝置51正好卡在風扇中，這樣將主風扇11的位置就固定了，支撐冒7通過 彈簧62與支撐桿61相連，這樣在移動主風扇11扇葉的時候，移到緩沖作 用，能夠保護到扇葉。通過液壓柱2將輔風扇21升起，由于主風扇11的固 定，可以增加輔風扇21的扇葉的長度，有效的提高冷卻效果，在冷卻裝置 上全覆蓋待冷卻產品開啟主風扇11，當產品不足以覆蓋整冷卻裝置的時候， 集中在局部，用輔風扇21進行冷卻，這樣能夠降低能源消耗，提高經濟效 益。

本發(fā)明在冷卻設置中的主風扇11上增加了固定裝置3，能夠固定住主風 扇11扇葉的方向，這樣輔風扇21，上升的時候，不會碰到主風扇11的扇葉， 也能增加輔風扇21扇葉的直徑，增加輔風扇21的降溫能力，能夠加快冷卻 效果，進一步減少整個工藝的時間，提高工作效率，提高經濟效益。

以上對本發(fā)明的一個實施例進行了詳細說明，但所述內容僅為本發(fā)明的 較佳實施例，不能被認為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍 所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內。