[發(fā)明專利]具有無邊框顯示效果的顯示設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410569848.6 | 申請日: | 2014-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN105527734A | 公開(公告)日: | 2016-04-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 洪毅;陳柏洲 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G09F9/30 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 彭輝劍 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 邊框 顯示 效果 設(shè)備 | ||
1.一種顯示設(shè)備,包括多個拼接而成的顯示單元,每個顯示單元包括顯示面板及邊框,該顯示面板包括一顯示面,該顯示面用于顯示圖像,該邊框位于該顯示面的邊緣,其特征在于:該顯示設(shè)備還包括導(dǎo)光單元,該導(dǎo)光單元包括設(shè)置于該多個顯示單元上的下層導(dǎo)光板和設(shè)置于該下層導(dǎo)光板上的上層導(dǎo)光板,該下層導(dǎo)光板形成有折光光柵,每個折光光柵對應(yīng)一個邊框,用于將該顯示面射出的光線向該對應(yīng)的邊框方向偏轉(zhuǎn),該上層導(dǎo)光板對應(yīng)該折光光柵形成有導(dǎo)正光柵,用于將被該折光光柵偏轉(zhuǎn)的光線導(dǎo)正到垂直該顯示面的方向;該折光光柵包括多個面向該上層導(dǎo)光板的第一棱柱,每個第一棱柱包括相對該顯示面傾斜的第一面;該導(dǎo)正光柵包括多個面向該下層導(dǎo)光板的第二棱柱,每個第二棱柱包括與該第一表面對應(yīng)的第三面,第三面與對應(yīng)的第一面大致平行;該折光光柵的多個第一面中包括最接近該對應(yīng)的邊框的第一面,該最接近該對應(yīng)的邊框的第一面與該顯示面之間的夾角由以下公式得出:
(1);
(2);
(3);其中
b為邊框的寬度,d為折光光柵到導(dǎo)正光柵的距離,θ為從顯示面射出的光線可以完全覆蓋邊框所需的偏轉(zhuǎn)角,α為最接近該對應(yīng)的邊框的第一面與顯示面之間的夾角,n2為折光光柵和導(dǎo)正光柵的折射率,n1為空氣的折射率,β為光線從最接近對應(yīng)的邊框的第一面出射的出射角。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:該顯示單元為液晶顯示單元。
3.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:自該對應(yīng)的邊框起且向著該顯示面板的方向,不同的該第一面與該顯示面之間的夾角逐漸減少。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:該第一棱柱和該第二棱柱連續(xù)分布。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:該下層導(dǎo)光板包括面向該上層導(dǎo)光板的第一表面和與該第一表面相對的第二表面,該折光光柵形成于該第一表面;該上層導(dǎo)光板還包括面向該下層導(dǎo)光板的第三表面和與該第三表面相對的第四表面,該導(dǎo)正光柵形成于該第三表面上。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備,其特征在于:該下層導(dǎo)光板還包括第一平板部分,該第一平板部分內(nèi)的該第一表面為光滑的平面,該第一平板部分相對該折光光柵遠(yuǎn)離該對應(yīng)的邊框;該上層導(dǎo)光板還包括第二平板部分,該第二平板部分內(nèi)的該第三表面為光滑的平面,該第二平板部分相對該導(dǎo)正光柵遠(yuǎn)離該對應(yīng)的邊框。
7.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:每個該第一棱柱還包括與該第一面相交的第二面,最靠近該對應(yīng)的邊框的該第二面與該顯示面大致平行,其他的第二面與該顯示面大致垂直;每個該第二棱柱還包括與該第三面相交的第四面,該第四面與該顯示面大致垂直。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備,其特征在于:在每個該第一棱柱中,該第二面相比該第一面更靠近該對應(yīng)的邊框。
9.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:該第一棱柱和該第二棱柱沿平行該對應(yīng)的邊框的方向延伸。
10.如權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其特征在于:還包括一個設(shè)置于該上層導(dǎo)光板之上的保護(hù)蓋。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司,未經(jīng)鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





