[發明專利]一種用于硅片刻蝕反應腔室清洗的方法在審
| 申請號： | 201410568055.2 | 申請日： | 2014-10-23 |
| 公開（公告）號： | CN105583206A | 公開（公告）日： | 2016-05-18 |
| 發明（設計）人： | 張棟 | 申請（專利權）人： | 青島百鍵城環保科技有限公司 |
| 主分類號： | B08B9/08 | 分類號： | B08B9/08 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 266300 山東省*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 硅片 刻蝕 反應 清洗 方法 | ||
【權利要求書】：
1.所述的揮發性物質包括SiF4和/或C02和/或CO。
2.根據權利要求1所述的反應腔室清洗的方法，其特征在于，所述步驟B中所用的工藝氣體包括He氣和/或N2氣。
3.根據權利要求8所述的反應腔室清洗的方法，其特征在于，所述的He氣和/或N2氣的總流量為100?200sccm。
4.根據權利要求1所述的反應腔室清洗的方法，其特征在于，所述的反應腔室連接有擺閥；
所述步驟B中，擺閥釆用位置模式控制，且擺閥幵到最大，工藝氣體通過擺閥將所述揮發性物質帶出反應腔室。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于青島百鍵城環保科技有限公司，未經青島百鍵城環保科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410568055.2/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種電子束安全引出裝置
- 下一篇：一種改良型插線式燈座
