[發(fā)明專利]襯底處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410563526.0
• 申請日: 2014-10-21
• 公開（公告）號: CN104576450B
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金戊一;金泰俊;金圣進;金鐘元
• 申請（專利權(quán)）人: AP系統(tǒng)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種襯底處理設(shè)備，其特征在于包括：

腔殼，具有襯底處理空間，所述腔殼由底壁、上壁，以及將所述底壁連接到所述上壁的側(cè)壁界定；

襯底平臺，經(jīng)配置以在所述襯底處理空間內(nèi)在第一軸向方向以及與所述第一軸向方向交叉的第二軸向方向上移動；

電纜導(dǎo)管，配置在所述襯底平臺之下以保護供應(yīng)電流到襯底平臺的電纜；

側(cè)壁排氣單元，分別沿著所述腔殼的所述側(cè)壁安置，所述側(cè)壁排氣單元經(jīng)配置以將由所述襯底平臺的移動在所述襯底平臺與所述側(cè)壁之間產(chǎn)生的氣流引導(dǎo)到外部；

下部阻斷本體，耦合到所述電纜導(dǎo)管，所述下部阻斷本體經(jīng)配置以阻斷被引入到襯底的下側(cè)的氣流，以反射所述氣流朝向所述側(cè)壁排氣單元，

其中所述側(cè)壁排氣單元中的每一個包括：

側(cè)壁排氣本體，分別沿著所述腔殼的所述側(cè)壁安置，所述側(cè)壁排氣本體中的每一個經(jīng)配置以吸入平行于所述腔殼的所述底壁流動的氣體以將吸入的所述氣體排出到所述外部；

側(cè)壁排氣板，經(jīng)配置以將所述襯底處理空間內(nèi)的所述氣流的方向改變成平行于所述腔殼的所述底壁的方向，所述側(cè)壁排氣板包括：

側(cè)壁排氣單元上部板，連接到所述側(cè)壁排氣本體的上部末端表面且

朝向所述腔殼的所述襯底處理空間突出；

側(cè)壁排氣擴展上部板，所述側(cè)壁排氣擴展上部板能夠通過從所述側(cè)壁排氣單元上部板朝向所述腔殼的所述襯底處理空間向前或向后滑動擴展的，以能夠根據(jù)所述襯底平臺的大小來調(diào)整突出長度；以及

噴嘴，安置在所述腔殼的所述上壁上以將氣體噴射到所述襯底處理空間的下側(cè)中，所述噴嘴在所述第二軸向方向上縱向地安置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理設(shè)備，其中所述側(cè)壁排氣單元包括：

側(cè)壁排氣外殼，沿著所述腔殼的所述側(cè)壁中的每一個安置；

側(cè)壁排氣通道管，具有界定在所述側(cè)壁排氣外殼中的排氣通道以及界定在面向所述襯底平臺的表面中的排氣孔；以及

側(cè)壁排氣端口，連接到所述側(cè)壁排氣通道管的內(nèi)部以將所述排氣通道內(nèi)的所述氣體排出到所述外部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理設(shè)備，其中所述側(cè)壁排氣板進一步包括：

側(cè)壁排氣下部板，從所述側(cè)壁排氣通道管的下部末端表面朝向所述腔殼的所述底壁突出。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底處理設(shè)備，其中所述側(cè)壁排氣上部板安置在與所述襯底平臺的下部表面的位置相同或低于所述襯底平臺的下部表面的位置處。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底處理設(shè)備，其中所述側(cè)壁排氣下部板朝向所述腔殼的所述底壁傾斜地突出，以使得其末端接觸所述腔殼的所述底壁。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理設(shè)備，進一步包括：

第一軸向傳送支架，包括在所述第一軸向方向上彼此間隔開而安置的一對導(dǎo)軌；以及

第二軸向傳送支架，具有在所述第二軸向方向上對應(yīng)于所述第一軸向傳送支架的所述一對導(dǎo)軌之間的長度的長度，所述第二軸向傳送支架在所述第一軸向方向上沿著所述第一軸向傳送支架滑動，

其中所述襯底平臺安置在所述第二軸向傳送支架上并且沿著所述第二軸向方向沿著所述第二軸向傳送支架向前或向后滑動。