[發(fā)明專利]一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410561585.4 | 申請日： | 2014-10-21 |
| 公開（公告）號： | CN105591206A | 公開（公告）日： | 2016-05-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 薛長江;余川;孟凡寶;屈勁;徐剛;施美友;陳世韜 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院應用電子學研究所 |
| 主分類號： | H01Q15/14 | 分類號： | H01Q15/14 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權代理有限公司 51214 | 代理人： | 卿誠;吳彥峰 |
| 地址： | 621000 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 毫米波 近場 機械 調(diào)焦 反射 天線 | ||
1.一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線，包括主反射面、副反射面和饋源，所述饋源發(fā)射出的波束經(jīng)副反射面反射到主反射面后再射出；所述主反射面的曲面形狀為旋轉拋物面，主反射面的中心點位于副面出射中心軸線和輻射波束軸線交點處；所述副反射面曲面為旋轉雙曲面，且副反射面為圓對稱結構，圓心位于所述饋源出射軸線上；所述饋源設置在副反射面的實焦點附近；所述主反射面的焦點與天線副面雙曲面的另一實焦點相近；所述饋源軸線與主反射面輻射波束軸線成任意度夾角；其特征在于所述主反射面、副反射面和饋源設置同一個支架上，饋源和主反射面固定在支架上保持位置不變；所述支架上設置有運動機構，副反射面設置在運動機構上，副反射面能在運動機構上前后、上下、左右移動或者旋轉移動或者旋轉。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線，其特征為所述主反射面為圓對稱結構或為橢圓對稱結構。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線，其特征為所述主反射面和副反射面均為導電面。
4.根據(jù)權利要求3所述的一種毫米波近場機械調(diào)焦雙反射面天線，其特征為所述導電面為全導電金屬結構；或為非金屬材料，其非金屬材料表面涂覆、電鍍金屬層或?qū)щ娖帷?
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