[發明專利]一種新型用于機械設備的拋光液

在審

• 申請號: 201410556500.3
• 申請日: 2014-10-20
• 公開（公告）號: CN104327743A
• 公開（公告）日: 2015-02-04
• 發明（設計）人: 王省業
• 申請（專利權）人: 青島錦繡水源商貿有限公司
• 主分類號: C09G1/04
• 分類號: C09G1/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種新型用于機械設備的拋光液。

背景技術

傳統介電層材料由于具有較高的介電常數，會導致傳導層之間電容增大，從而影響集成電路的速度，使效率降低，隨著集成電路的復雜化和精細化，這種基底材料越發不能滿足更先進制程的技術要求，在襯底中引入低介電材料是集成電路技術發展的必然趨勢，隨之產生了許多用于低介電材料的拋光漿液。但目前現有技術中的低介電材料拋光液都沒有達到制造成本和技術表現的完美結合。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種新型用于機械設備的拋光液。

為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是：

一種新型用于機械設備的拋光液，其特征在于，包括下列重量份數的物質：雙氧水25-34份，鄰苯二甲酸二異癸酯5-9份，抗壞血酸棕櫚酸酯11-24份，加氫機油10-16份，氯化石蠟3-7份，9，10-環氧硬脂酸辛酯11-17份，分子篩11-24份，二氯甲烷10-16份，乙酸20-34份，硝基苯25-46份，水55-60份。

本發明的有益效果是：本發明的化學機械拋光液可抑制低介電材料的拋光速率，而對銅和二氧化硅的去除速率影響不大，同時可減少被拋光材料的表面污染物。

具體實施方式

實施例1

一種新型用于機械設備的拋光液，包括下列重量份數的物質：雙氧水25份，鄰苯二甲酸二異癸酯5份，抗壞血酸棕櫚酸酯11份，加氫機油10份，氯化石蠟3份，9，10-環氧硬脂酸辛酯11份，分子篩11份，二氯甲烷10份，乙酸20份，硝基苯25份，水55份。

實施例2

一種新型用于機械設備的拋光液，包括下列重量份數的物質：雙氧水34份，鄰苯二甲酸二異癸酯9份，抗壞血酸棕櫚酸酯24份，加氫機油16份，氯化石蠟7份，9，10-環氧硬脂酸辛酯17份，分子篩24份，二氯甲烷16份，乙酸34份，硝基苯46份，水60份。