[發明專利]一種準分布式結構位移光學測量方法有效
| 申請號: | 201410548424.1 | 申請日: | 2014-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN104359406A | 公開(公告)日: | 2015-02-18 |
| 發明(設計)人: | 葉肖偉;董傳智;劉坦 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 杭州天正專利事務所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;黃美娟 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 分布式 結構 位移 光學 測量方法 | ||
1.一種準分布式結構位移光學測量方法,具體實施流程如下:
A.搭建測量裝置與初步調試準備。
A1.選擇適當的位置,安裝并連接工業數碼相機、鏡頭及計算機等設備,檢查好線路,啟動系統;
A2.反復調整相機鏡頭的朝向、仰角,調整焦距、快門速度、光圈大小等參數,使得被測結構準分布測點出現在鏡頭的合適位置;
A3.調整相機參數(曝光度、增益值),并尋找準分布式測點的標識物,這里的準分布測點標識物為結構自身表面的特殊識別物,比如特殊的紋理、圖案背景等。建立相機、測點、標識物之間的關系,直到獲得準分布測點標識物在系統可識別范圍內的清晰圖像。
B.圖像像素與實際距離的標定。
B1.對拍攝到的準分布測區標識物圖像進行數字化處理;
B2.通過幾何計算確定準分布式測點間的實際距離;
B3.確定系統采集到的圖像中準分布測點的像素點數;
B4.通過比較準分布測點間的實際距離與圖像中準分布測點間像素數的關系進行標定。
C.準分布測點圖像模板制定與匹配優化。
C1.圖像中準分布測點區域劃分;
C2.對劃分區域進行模板制定,并通過圖像處理算法對模板進行匹配;
C3.進行模板匹配學習訓練,并用優化算法對準分布測區進行自適應優化,直至模板匹配滿足測量要求;
C4.得到準分布式測點在圖像中的模板坐標。
D.準分布式結構位移自動測量和存儲。
D1.制定位移測量的采集和存儲策略,連續采集需要確定采樣頻率,間隔采集則需要確定間隔采樣時間,并確定采集時長,使得準分布式位移測量在采集和存儲方面有序進行,數據準確歸檔;
D2.按照采集策略進行圖像采集,并進行存儲,存取下來的包括視頻信息及視頻中圖像的灰度信息;
D3.準分布式測區搜索與模板匹配;
D4.計算圖像中匹配到的準分布測點的位置與模板初始位置的坐標差值,利用B4中的標定結果確定準分布測點位移值,包括水平和豎直兩個方向的位移,并將位移序列進行存儲;
D5.檢查是否完成測量策略中制定的任務,完成則采集結束,未完成則繼續重復D2至D5,直至完成測量策略中制定的任務,系統測量結束。
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