[發明專利]一種保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平的小斷面連通管裝置和方法

在審

• 申請號: 201410547589.7
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN104307627A
• 公開（公告）日: 2015-01-28
• 發明（設計）人: 莊故章;周平;謝海云;王春梅;王晴紅
• 申請（專利權）人: 昆明理工大學
• 主分類號: B03C1/00
• 分類號: B03C1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平的小斷面連通管裝置和方法，屬于礦物加工工程技術領域。

背景技術

濕式磁選機包括有礦漿槽體的濕式磁選機和沒有礦漿槽體的濕式磁選機。由于有礦漿槽體的濕式磁選機分選的效果好于沒有礦漿槽體的濕式磁選機分選的效果，沒有礦漿槽體的濕式磁選機使用越來越少，常用的濕式磁選機都是有礦漿槽體的濕式磁選機。

有礦漿槽體的濕式磁選機的主要組成部分包括：礦漿槽體、磁性礦物顆粒吸著裝置（磁體或聚磁介質）、原礦給入裝置、被吸著磁性礦物顆粒輸運裝置、磁性產品排出裝置、非磁性產品排出裝置。遠離給礦口的礦漿槽體上端有限制礦漿面高度的溢流口，溢流口高度就是礦漿面的最高位置。非磁性產品排出裝置是與礦漿槽體下部連接的一段出口管，該出口管實際上是正常生產時礦漿槽體的唯一出口管。

有礦漿槽體的濕式磁選機中的分選在礦漿槽體中進行。分選時，原礦連續給入，磁性產品脫離礦漿槽體并從礦漿面的上方排出，非磁性產品從位于礦漿槽體下部的出口管排出。

由于精選區要求和（或）掃選區要求，非磁性產品出口管不能用溢流口代替，非磁性產品出口管與礦漿槽體連接處必須低于溢流口和要求的礦漿面（見圖1），也遠離磁性產品排出口。正因為如此，原礦給入（體積）速度變小時就會導致礦漿面水平下降，影響生產甚至不能產出產品。要提高生產穩定性和提高生產指標，必須保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平。

針對濕式磁選機槽體中礦漿面水平下降問題，目前已經出現或可望采用的技術措施有三種。第一種措施是在非磁性產品出口管上安裝手動閥門（見圖2）,第二種措施是在非磁性產品出口管上安裝閥門并采用各型自動控制調節系統,第三種措施是在槽體接近精礦口的一側開尾礦口（中國專利申請號96223415.X），本質上是在接近磁性產品排出口的一側開非磁性產品排出口（見圖3）。

這三種保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平措施中,手動閥門措施首先被采用，但沒有也不可能有用，因為工人來不及反應和行動。自動閥門措施一般情況下可靠，但是，由于投資和維護成本高，難以被采用。在槽體接近精礦口的一側開尾礦口的本質是在接近磁性產品排出口的一側開非磁性產品排出口,其采用違背了磁選機設計的要求，必然導致磁性產品精選區縮小或消失，從而導致磁性產品品位降低，其采用是以降低磁性產品品位和犧牲分選效果為代價的，除了需要降低磁性產品品位的情況都不宜采用。

保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平需要更好的新技術。迄今為止，尚未見到小斷面連通管法和裝置用于保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平的報道。

發明內容

針對上述現有技術存在的問題及不足，本發明提供一種保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平的小斷面連通管裝置和方法。該方法及裝置能通過簡單的單可靠的連通管法保持濕式磁選機礦漿面水平，本發明通過以下技術方案實現。

一種保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平的小斷面連通管裝置，包括非磁性產品排出管1、礦漿槽體2、磁性產品排出管3、磁性產品吸著輸運裝置4、給料口5、溢流口6和機架7，還包括小斷面連通管裝置，所述小斷面連通管裝置連接在非磁性產品排出管1出口位置，且小斷面連通管裝置排出口與礦漿槽體2中的最高礦漿面等高。

所述小斷面連通管裝置分為下降部分和上升部分。

所述小斷面連通管裝置的上升部分最大斷面面積為最小尾礦體積量與最大尾礦顆粒懸浮速度的比值。

所述小斷面連通管裝置排出口將非磁性產品直接外排入池子、溝渠或引到其它位置。

所述小斷面連通管裝置排出口引到其它位置時，小斷面連通管裝置排出口與外排管道（外排管道為將非磁性產品引到其它位置的管道）連接處設有開口。如果斷面連通管裝置排出口與外排管道連接處沒有開口，非磁性產品不明流排放，磁選機內的礦漿面就會受虹吸作用而下降。

上述小斷面連通管裝置可以采用軟管，也可以采用剛性管；小斷面連通管裝置路徑可以根據需要變化。

一種保持濕式磁選機槽體中礦漿面水平的小斷面連通管的方法，其具體步驟如下：

步驟1、根據給料口5中加入的物料的最小尾礦體積量與最大尾礦顆粒懸浮速度的比值確定小斷面連通管裝置的上升部分最大斷面面積，確保非磁性產品通過速度大于其懸浮速度，在非磁性產品排出管中沒有顆粒沉降，保證非磁性產品全部通過；

步驟2、將步驟1中的任意形狀的小斷面連通管裝置連接在濕式磁選機的非磁性產品排出管1出口位置，且小斷面連通管裝置排出口與礦漿槽體2中的最高礦漿面等高；