[發明專利]處理單元、圖像形成裝置

有效

• 申請號: 201410547210.2
• 申請日: 2014-10-16
• 公開（公告）號: CN104570678B
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 吉瀬允紀;中村賢二;山下剛司;池田保;豐田稔;松野泰英
• 申請（專利權）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G21/18
• 分類號: G03G21/18;G03G15/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 張祥

1.一種處理單元，其特征在于包括：

像載置回轉體，其在表面上載置顯影劑像；

顯影劑載置體，其將顯影劑供給到所述像載置回轉體上；

清潔構件，其除去殘留在所述像載置回轉體的表面上的顯影劑；

抵接構件，其橫跨所述像載置回轉體上對應于沿著所述顯影劑載置體的軸方向為狀態變化的邊界線的位置和對應于所述顯影劑載置體上形成有調色劑的層的區域與不形成調色劑的層的區域的邊界線的位置中的至少一方地，來被配置為與所述像載置回轉體的表面抵接，并除去附著在所述像載置回轉體上的異物，其中，所述抵接構件具有將對所述像載置回轉體進行曝光的光寫入機構以和所述像載置回轉體借助于規定的間隔來進行位置確定的間隔構件的功能。

2.根據權利要求1所述的處理單元，其特征在于：

將沿著所述顯影劑載置體的軸方向為狀態不同的各部分分為第一狀態部分和第二狀態部分時，所述第一狀態部分和第二狀態部分的區別在于涂層的有無。

3.根據權利要求1所述的處理單元，其特征在于：

所述抵接構件在所述像載置回轉體的回轉方向上被配置在所述清潔構件的下游且所述顯影劑載置體的上游處。

4.根據權利要求1所述的處理單元，其特征在于：

所述抵接構件在所述像載置回轉體的回轉方向上被配置在所述顯影劑載置體的下游且所述清潔構件的上游處，并在所述像載置回轉體的軸方向上被配置在形成圖像的區域的外側。

5.根據權利要求4所述的處理單元，其特征在于：

所述像載置回轉體具有轉印所載置的像的轉印位置，并在所述像載置回轉體的回轉方向上，將所述抵接構件配置在所述顯影劑載置體的下游且比所述轉印位置更為上游處。

6.根據權利要求1至5中任何一項所述的處理單元，其特征在于：

所述抵接構件被配置為橫跨所述像載置回轉體上對應于沿著軸方向為狀態變化的邊界線的位置和對應于所述顯影劑載置體上形成有調色劑的層的區域與不形成調色劑的層的區域的邊界線的所述像載置回轉體上的位置的雙方。

7.根據權利要求1至5中任何一項所述的處理單元，其特征在于：

作為所述抵接構件的材料，采用的是聚甲醛(POM)。

8.根據權利要求1至5中任何一項所述的處理單元，其特征在于：

將所述抵接構件的所述像載置回轉體的回轉方向上游側的表面朝著所述像載置回轉體的回轉方向向所述像載置回轉體的軸方向外側傾斜。

9.根據權利要求1至5中任何一項所述的處理單元，其特征在于：

所述像載置回轉體被構成為能夠在圖像形成時的正向回轉以及與其相反方向的逆向回轉，

所述處理單元包括與所述像載置回轉體的表面抵接并對所述像載置回轉體逆向回轉時的所述像載置回轉體上的異物的通過進行阻止的阻止構件，并將所述阻止構件配置在所述抵接構件和所述像載置回轉體的同一回轉圓周上。

10.根據權利要求9所述的處理單元，其特征在于：

包括使得所述像載置回轉體的表面帶電的帶電構件，

并且，所述阻止構件被配置在所述像載置回轉體的正向回轉方向上的所述帶電構件的下游且所述抵接構件的上游處。

11.根據權利要求9所述的處理單元，其特征在于：

將所述抵接構件的所述像載置回轉體的回轉方向上游側的表面朝著所述像載置回轉體的回轉方向向所述像載置回轉體的軸方向外側傾斜地配置，

并且，所述阻止構件以沿著所述像載置回轉體的軸方向的面來接受所述抵接構件的異物。