[發(fā)明專利]光刻掩模版鉻膜厚度測量方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410543262.2
• 申請(qǐng)日: 2014-10-01
• 公開（公告）號(hào): CN104359412A
• 公開（公告）日: 2015-02-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳開盛;曹莊琪;沈益翰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海光刻電子科技有限公司
• 主分類號(hào): G01B11/06
• 分類號(hào): G01B11/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光刻掩模版鉻膜厚度測量方法，基于一個(gè)測量系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：棱鏡耦合長程表面等離子共振激?

發(fā)結(jié)構(gòu)A和光電發(fā)射與信號(hào)探測模塊B，其特征在于：?

1)棱鏡耦合長程表面等離子共振激發(fā)結(jié)構(gòu)A，由玻璃棱鏡1、匹配液2、玻璃墊圈3、鉻膜4、石英玻璃襯底5、基板6、液體進(jìn)口7、液體出口8等部件組成，其特征在于：?

(1)玻璃墊圈3膠合于玻璃棱鏡1的底面，鉻膜4沉積在石英玻璃襯底5上；?

(2)石英玻璃襯底5膠合于基板6，其厚度小于玻璃墊圈3，兩者之差構(gòu)成一可輸入液體的空腔，該空腔存放折射率與石英玻璃襯底5相同的匹配液2；?

(3)玻璃墊圈3上開兩個(gè)通孔，分別是液體進(jìn)口7和液體出口8，匹配液2由液體進(jìn)口7進(jìn)入，而廢棄匹配液通過液體出口8排出。?

2)光電發(fā)射與信號(hào)探測模塊B，由中紅外He-Ne激光器9、偏振鏡10和熱輻射探測器11等部件組成，其特征在于：?

(4)中紅外He-Ne激光器9發(fā)射的平行光經(jīng)過偏振鏡10后，成為TM偏振光，并以一定角度入射于玻璃棱鏡1的底面；?

(5)反射光投影到光強(qiáng)測量裝置一熱輻射探測器11；?

(6)在一定角度范圍內(nèi)連續(xù)變化激光入射角度，并同時(shí)記錄反射光強(qiáng)，形成反射率一入射角度曲線，根據(jù)長程表面等離子共振衰減全反射吸收峰的位置確定光刻掩模版鉻膜的厚度。?

2.根據(jù)權(quán)利1要求的玻璃棱鏡1，其特征在于：玻璃棱鏡為三角形棱鏡，材料為光學(xué)玻璃，其折射率范圍為1.60～1.80之間。?

3.根據(jù)權(quán)利1要求的匹配液2的折射率，其特征在于：必須與石英玻璃襯底5的折射率相同。?

4.根據(jù)權(quán)利1要求的中紅外He-Ne激光器9，其特征在于：波長為λ＝3.391μm。?

5.根據(jù)權(quán)利1要求的鉻膜4厚度測量范圍分別確定為5nm～20nm和20nm～100nm兩檔。?

6.根據(jù)權(quán)利1要求的玻璃墊圈3與石英玻璃襯底5兩者的厚度之差，其特征在于：當(dāng)鉻膜4厚度的測量范圍為5nm～20nm時(shí)，厚度為40um；當(dāng)鉻膜4厚度的測量范圍為20nm～100nm時(shí)，厚度為8.5um。?

7.根據(jù)權(quán)利1要求的鉻膜4厚度測量的分辨率，其特征在于：當(dāng)鉻膜4厚度的測量范圍為5nm～20nm時(shí)，分辨率為0.001°/nm；當(dāng)鉻膜4厚度的測量范圍為20nm～100nm時(shí)，分辨率為0.003°/nm。?